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1. (WO2004059710) PROCEDE DE MESURE DE L'ABERRATION, PROCEDE ET SYSTEME D'EXPOSITION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2004/059710    N° de la demande internationale :    PCT/JP2003/016259
Date de publication : 15.07.2004 Date de dépôt international : 18.12.2003
CIB :
G01M 11/02 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : NIKON CORPORATION [JP/JP]; 2-3, Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 100-8331 (JP) (Tous Sauf US).
HAGIWARA, Tsuneyuki [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : HAGIWARA, Tsuneyuki; (JP)
Mandataire : TATEISHI, Atsuji; Tateishi & Co., Karakida Center Bldg., 1-53-9, Karakida, Tama-shi, Tokyo 206-0035 (JP)
Données relatives à la priorité :
2002-371258 24.12.2002 JP
Titre (EN) ABERRATION MEASURING METHOD, EXPOSURE METHOD AND EXPOSURE SYSTEM
(FR) PROCEDE DE MESURE DE L'ABERRATION, PROCEDE ET SYSTEME D'EXPOSITION
(JA) 収差計測方法、露光方法及び露光装置
Abrégé : front page image
(EN)A light intensity signal corresponding to a measuring mark (PM) is obtained by using the relation between the aberration quantity of even-function aberration that constitutes one of the imaging characteristics of a projection optical system (PL) and the magnitude of a spatial frequency component with a specified degree contained in a light intensity distribution corresponding to the spatial image of the measuring mark (PM), a specified degree contained in that light intensity signal, for example the magnitude of a first-degree spatial frequency component is measured, and the aberration quantity of even-function aberration in the projection optical system (PL)is calculated based the measured magnitude.
(FR)Selon cette invention, un signal d'intensité lumineuse correspondant à une marque de mesure (PM) est obtenu au moyen de la relation entre la quantité de l'aberration de fonction paire qui constitue l'une des caractéristiques de mise en image d'un système optique de projection (PL) et l'amplitude d'une composante de fréquence spatiale avec un degré spécifique contenue dans une distribution d'intensité lumineuse correspondant à l'image spatiale de la marque de mesure (PM), un degré spécifique contenu dans ce signal d'intensité lumineuse, par exemple l'amplitude d'une composante de fréquence spatiale de premier degré, est mesuré, et la quantité de l'aberration de fonction paire dans ce système optique de projection (PL) est calculée en fonction de l'amplitude mesurée.
(JA) 投影光学系(PL)の結像特性の1つである偶関数収差の収差量と計測マーク(PM)の空間像に対応する光強度分布に含まれる所定次数の空間周波数成分の大きさとの関係を利用して、計測マーク(PM)に対応する光強度信号を得て、その光強度信号に含まれる所定次数、例えば1次の空間周波数成分の大きさを計測し、計測されたその大きさに基づいて投影光学系(PL)の偶関数収差の収差量を算出する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)