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1. (WO2004059394) PROCEDE DE DETERMINATION DU MEILLEUR REGLAGE DE PROCESSUS POUR UNE FENETRE DE PROCESSUS OPTIMAL OPTIMISANT LES PERFORMANCES DU PROCESSUS DETERMINANT LA FENETRE DE PROCESSUS OPTIMAL POUR UN PROCESSUS LITHOGRAPHIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2004/059394    N° de la demande internationale :    PCT/IB2003/006094
Date de publication : 15.07.2004 Date de dépôt international : 18.12.2003
CIB :
G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS N.V. [NL/NL]; Groenewoudseweg 1, NL-5621 BA Eindhoven (NL) (Tous Sauf US).
VAN WINGERDEN, Johannes [NL/NL]; (NL) (US Seulement).
JUFFERMANS, Casparus, A., H. [NL/NL]; (NL) (US Seulement).
DIRKSEN, Peter [NL/NL]; (NL) (US Seulement)
Inventeurs : VAN WINGERDEN, Johannes; (NL).
JUFFERMANS, Casparus, A., H.; (NL).
DIRKSEN, Peter; (NL)
Mandataire : DUIJVESTIJN, Adrianus, J.; Philips Intellectual Property & Standards, Prof. Holstlaan 6, NL-5656 AA Eindhoven (NL)
Données relatives à la priorité :
02080594.1 30.12.2002 EP
Titre (EN) DETERMINING LITHOGRAPHIC PARAMETERS TO OPTIMISE A PROCESS WINDOW
(FR) PROCEDE DE DETERMINATION DU MEILLEUR REGLAGE DE PROCESSUS POUR UNE FENETRE DE PROCESSUS OPTIMAL OPTIMISANT LES PERFORMANCES DU PROCESSUS DETERMINANT LA FENETRE DE PROCESSUS OPTIMAL POUR UN PROCESSUS LITHOGRAPHIQUE
Abrégé : front page image
(EN)For determining best process variables (E, F, W) setting that provide optimum process window for a lithographic process for printing features having critical dimensions (CD) use is made of an overall performance characterizing parameter (Cpk) and of an analytical model, which describes CD data as a function of process parameters, like exposure dose (E) and focus( F). This allows calculating of the average value (µCD) and the variance (&sgr;CD) of the statistical CD distribution (CDd) and to determine the highest Cpk value and the associated values of process parameters, which values provide the optimum process window.
(FR)Afin de déterminer le meilleur réglage des variables (E, F, W) d'un processus fournissant une fenêtre de processus optimal pour un processus lithographique dans le cadre de caractéristiques d'impression ayant des dimensions critiques (CD), on utilise un paramètre complet de caractérisation des performances (Cpk) et un modèle analytique, décrivant les données CD comme fonction de paramètres d'un processus, notamment la dose d'exposition (E) et la distance focale (F). Ceci permet de calculer la valeur moyenne (µCD) et la variation (SCD) de la distribution CD statistique (CDd) et de déterminer la valeur la plus élevée Cpk et les valeurs associées des paramètres d'un processus, lesdites valeurs fournissant la fenêtre de processus optimal.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)