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1. (WO2004059391) COMPOSITION DE RESERVE ET PROCEDE DE FORMATION D'UN MOTIF DE RESERVE AU MOYEN DE CETTE COMPOSITION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2004/059391    N° de la demande internationale :    PCT/JP2003/016267
Date de publication : 15.07.2004 Date de dépôt international : 18.12.2003
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    06.07.2004    
CIB :
G03F 7/004 (2006.01), G03F 7/039 (2006.01)
Déposants : TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. [JP/JP]; 150, Nakamaruko, Nakahara-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa 211-0012 (JP) (Tous Sauf US).
TAKESHITA, Masaru [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
MIYAIRA, Miwa [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
HADA, Hideo [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
IWAI, Takeshi [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : TAKESHITA, Masaru; (JP).
MIYAIRA, Miwa; (JP).
HADA, Hideo; (JP).
IWAI, Takeshi; (JP)
Mandataire : TANAI, Sumio; 2-3-1, Yaesu, Chuo-ku,, Tokyo 104-8453 (JP)
Données relatives à la priorité :
2002-373936 25.12.2002 JP
2003-355418 15.10.2003 JP
Titre (EN) RESIST COMPOSITION AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN USING SAME
(FR) COMPOSITION DE RESERVE ET PROCEDE DE FORMATION D'UN MOTIF DE RESERVE AU MOYEN DE CETTE COMPOSITION
Abrégé : front page image
(EN)There are provided a resist composition that produces a resist pattern of good shape, and a method of forming a resist pattern that uses such a resist composition. The resist composition comprises a resin component (A) that undergoes a change in alkali solubility under the action of acid, an acid generator component (B) that generates acid on exposure, and an organic solvent (C), wherein the component (B) comprises a compound represented by a general formula (I) shown below [wherein, R1 to R3 each represent, independently, a methyl group or an ethyl group; and X- represents an anion].
(FR)L'invention concerne une composition de réserve qui permet de produire un motif de réserve de bonne forme, ainsi qu'un procédé de formation d'un motif de réserve mettant en oeuvre une telle composition de réserve. Cette composition de réserve comprend une composante de résine (A) qui subit un changement de solubilité alcaline sous l'action d'un acide, et une composante produisant un acide (B) qui produit un acide lors d'exposition à la lumière, ainsi qu'un solvant organique (C), la composante (B) comprenant un composé représenté par la formule générale (I), dans laquelle R1 à R3 représentent chacun, indépendamment, un groupe méthyle ou un groupe éthyle, et X représente un anion.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)