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1. (WO2004059390) DISPOSITIF ET PROCEDE DE FABRICATION D'UNE STRUCTURE DE FORMATION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2004/059390    N° de la demande internationale :    PCT/US2003/041006
Date de publication : 15.07.2004 Date de dépôt international : 19.12.2003
CIB :
A61F 13/15 (2006.01), B23K 26/00 (2006.01), B23K 26/06 (2006.01), B23K 26/36 (2006.01), B23K 26/38 (2006.01), B26F 1/26 (2006.01), B29C 59/02 (2006.01), B29C 59/06 (2006.01), B29C 59/16 (2006.01), D04H 1/46 (2006.01), D06C 23/00 (2006.01)
Déposants : THE PROCTER & GAMBLE COMPANY [US/US]; One Procter & Gamble Plaza, Cincinnati, OH 45202 (US)
Inventeurs : GRAY, Brian, Francis; (US).
STONE, Keith, Joseph; (US).
GROSS, Sarah, Beth; (US).
O'NEIL, Julie, Ann; (US).
FIEDELDEY, Timothy, Paul; (US)
Mandataire : REED, T., David; The Procter & Gamble Company, 6110 Center Hill Rd., Cincinnati, OH 45224 (US)
Données relatives à la priorité :
10/324,181 20.12.2002 US
Titre (EN) APPARATUS AND METHOD FOR MAKING A FORMING STRUCTURE
(FR) DISPOSITIF ET PROCEDE DE FABRICATION D'UNE STRUCTURE DE FORMATION
Abrégé : front page image
(EN)A method for making a forming structure having columnar protrusions extending therefrom comprising the steps of exposing a liquid photosensitive resin to light having an activating wavelength thereby inducing partial curing of the photosensitive resin to form a monolithic slab of partially-cured photosensitive resin; and, including the step of inducing partial curing of a plurality of protrusions on the monolithic slab such that they are joined to and integral with the monolithic slab. The method can further comprise the step of laser etching a plurality of apertures through the forming structure.
(FR)L'invention concerne un procédé de fabrication d'une structure de formation comprenant des saillies en colonne s'étendant à partir de celle-ci. Ce procédé consiste à exposer une résine photosensible à une lumière présentant une longueur d'onde activatrice, ce qui permet d'induire un durcissement partiel de la résine photosensible, d'où la formation d'une plaque monolithique de résine photosensible partiellement durcie, puis à induire un durcissement partiel d'une pluralité de saillies sur la plaque monolithique de sorte qu'elles se joignent à la plaque monolithique et fassent corps avec celle-ci. Ce procédé peut en outre consister à ménager une pluralité d'ouvertures à travers la structure de formation par gravure laser.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)