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1. (WO2004059045) ANODE POUR ELECTRODEPOSITION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2004/059045    N° de la demande internationale :    PCT/EP2003/014785
Date de publication : 15.07.2004 Date de dépôt international : 23.12.2003
CIB :
C25D 17/10 (2006.01), C25D 17/12 (2006.01)
Déposants : METAKEM GESELLSCHAFT FÜR SCHICHTCHEMIE DER METALLE MBH [DE/DE]; Achtzehnmorgenweg 3, 61250 Usingen (DE) (Tous Sauf US).
M.P.C. Micropulse Plating Concepts [FR/FR]; 1 Avenue Leclerc, F-69007 Lyon (FR) (Tous Sauf US).
WURM, Jörg [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
MENARD, Stephane [FR/FR]; (FR) (US Seulement)
Inventeurs : WURM, Jörg; (DE).
MENARD, Stephane; (FR)
Mandataire : GROSS, ULrich-Maria; Uexküll & Stolberg, Beselerstr. 4, 22607 Hamburg (DE)
Données relatives à la priorité :
102 61 493.8 23.12.2002 DE
Titre (DE) ANODE ZUR GALVANISIERUNG
(EN) ANODE USED FOR ELECTROPLATING
(FR) ANODE POUR ELECTRODEPOSITION
Abrégé : front page image
(DE)Die vorliegende Erfindung betrifft eine Anode zur Galvanisierung, die einen Anoden-Grundkörper und eine Abschirmung aufweist und sich dadurch auszeichnet, dass bei ihrer Verwendung bei der Galvanisierung der Additiv-Abbau reduziert ist.
(EN)The invention relates to an anode which is used for electroplating and comprises a basic member and a shield. Said anode is characterized by the fact that additive decomposition is reduced during use thereof in an electroplating process.
(FR)La présente invention concerne une anode destinée à être utilisée dans un processus d'électrodéposition, cette anode comprenant un corps de base et un blindage. Ladite anode se caractérise en ce qu'elle permet de réduire, lors de son utilisation, la décomposition des additifs.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)