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1. (WO2004058450) PROCEDE DE PRODUCTION D'UN SUBSTRAT EN VERRE POUR SUPPORT D'ENREGISTREMENT D'INFORMATIONS, APPAREIL DE POLISSAGE ET SUBSTRAT EN VERRE POUR SUPPORT D'ENREGISTREMENT D'INFORMATIONS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2004/058450    N° de la demande internationale :    PCT/JP2003/016671
Date de publication : 15.07.2004 Date de dépôt international : 25.12.2003
CIB :
G11B 5/84 (2006.01), B24B 37/00 (2012.01), B24B 37/005 (2012.01), B24B 37/04 (2012.01), B24B 37/20 (2012.01), B24B 57/02 (2006.01), G11B 5/73 (2006.01)
Déposants : HOYA CORPORATION [JP/JP]; 7-5, Naka-Ochiai 2-Chome, Shinjuku-ku, Tokyo 161-8525 (JP) (Tous Sauf US).
HORISAKA, Tamaki [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SUZUKI, Koichi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
MINAMI, Akihide [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : HORISAKA, Tamaki; (JP).
SUZUKI, Koichi; (JP).
MINAMI, Akihide; (JP)
Mandataire : ONDA, Hironori; 12-1, Ohmiya-cho 2-chome, Gifu-shi, Gifu 500-8731 (JP)
Données relatives à la priorité :
2002-378735 26.12.2002 JP
Titre (EN) METHOD FOR PRODUCING GLASS SUBSTRATE FOR INFORMATION RECORDING MEDIUM, POLISHING APPARATUS AND GLASS SUBSTRATE FOR INFORMATION RECORDING MEDIUM
(FR) PROCEDE DE PRODUCTION D'UN SUBSTRAT EN VERRE POUR SUPPORT D'ENREGISTREMENT D'INFORMATIONS, APPAREIL DE POLISSAGE ET SUBSTRAT EN VERRE POUR SUPPORT D'ENREGISTREMENT D'INFORMATIONS
(JA) 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法と研磨装置及び情報記録媒体用ガラス基板
Abrégé : front page image
(EN)A glass substrate for information recording mediums is produced by polishing the surface of a rough glass plate. The polishing of the rough glass plate has two steps, namely a primary polishing step for lapping the surface of the rough glass plate flat and a secondary polishing step for finely polishing the lapped surface of the rough glass plate to make it flatter. The secondary polishing step has two stages in which a polishing pad composed of a foam is used, namely a first polishing stage wherein an abrasive containing abrasive grains of a cerium oxide is used and a second polishing stage wherein an abrasive containing abrasive grains of a silicon oxide is used. Between the first and second polishing stages, rinsing is conducted to wash the rough glass plate after the first polishing with use of a cleaning liquid, so that the abrasive grains used in the first polishing stage and remaining in the polishing pad are rinsed away.
(FR)La présente invention se rapporte à un substrat en verre pour supports d'enregistrement d'informations qui est produit par polissage de la surface d'une plaque en verre brut. Le polissage de la plaque en verre brut comporte deux étapes, à savoir une première étape de polissage permettant le rodage, aux fins de son aplanissement, de la surface de la plaque de verre brut et une seconde étape de polissage permettant un polissage de finition de la surface ayant subi le rodage de la plaque de verre brut de manière à la rendre plus plate. La seconde étape de polissage comporte deux stades au cours desquels un tampon de polissage composé d'une mousse est utilisé, à savoir un premier stade de polissage dans lequel un abrasif contenant des grains abrasifs d'un oxyde de cérium est utilisé et un second stade de polissage dans lequel un abrasif contenant des grains abrasifs d'un oxyde de silicium est utilisé. Entre le premier et le second stade de polissage, un rinçage est effectué pour laver la plaque de verre brut après le premier polissage à l'aide d'un liquide de nettoyage, de sorte que les grains abrasifs utilisés dans le premier stade de polissage et restant dans le tampon de polissage soient évacués par rinçage.
(JA)情報記録媒体用ガラス基板は、ガラス素板の表面を研磨することによって製造される。ガラス素板の研磨は、ガラス素板の表面を平滑に粗研磨するための1次研磨処理を施す工程と、粗研磨されたガラス素板の表面をさらに平滑に精密研磨するための2次研磨処理を施す工程との2工程に分けて行われる。2次研磨処理では、発泡体よりなる研磨パッドが使用され、酸化セリウムの砥粒を含む研磨剤を用いる前研磨と、酸化ケイ素の砥粒を含む研磨剤を用いる後研磨とが2段階に分けて行われる。前研磨及び後研磨の間で、洗浄液を用いて前研磨の後のガラス素板を濯ぐためのリンス処理が施され、前研磨の際に研磨パッド内に留まっていた砥粒がリンス処理の際に洗い流される。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)