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1. (WO2004057935) GENERATEUR A PLASMA A MICRO-ONDES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2004/057935    N° de la demande internationale :    PCT/JP2003/015088
Date de publication : 08.07.2004 Date de dépôt international : 26.11.2003
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    16.07.2004    
CIB :
H01J 37/32 (2006.01)
Déposants : HAMAMATSU FOUNDATION FOR SCIENCE AND TECHNOLOGY PROMOTION [JP/JP]; c/o Hamamatsu Campus, Shizuoka University, 3-5-1, Johoku, Hamamatsu-shi, Shizuoka 432-8011 (JP) (Tous Sauf US).
NAGATSU, Masaaki [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : NAGATSU, Masaaki; (JP)
Mandataire : INOGUCHI, Hisashi; 4th Floor, Oki Building, 45-7, Kabukicho 2-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 160-0021 (JP)
Données relatives à la priorité :
2002-369983 20.12.2002 JP
Titre (EN) MICROWAVE PLASMA GENERATING DEVICE
(FR) GENERATEUR A PLASMA A MICRO-ONDES
(JA) マイクロ波プラズマ発生装置
Abrégé : front page image
(EN)A microwave plasma generating device capable of directly exciting gas in a vacuum container by evanescent wave from a microwave resonator disposed in the container without relying on an ECR system, comprising a microwave source generating excited microwave, a plasma gas source, the plasma generating vacuum container (1) receiving the gas from the plasma gas source, a coaxial waveguide (3) for introducing excitation microwave into the container, and a parallel flat plate launcher (2) disposed in the container (1). The parallel flat plate launcher (2) forms a resonance hollow with a first conductor plate (21) connected to the outer conductor (31) of the coaxial waveguide (3), a dielectric plate (23), and a second conductor plate (22) connected to the center conductor (32) of the coaxial waveguide (31) and having a large number of opening holes for discharging the evanescent microwave into the vacuum container (1).
(FR)Générateur à plasma à micro-ondes capable d'exciter directement un gaz dans un conteneur sous vide par onde évanescente depuis un résonateur à micro-ondes placé dans le conteneur sans reposer sur un système ECR et comprenant une source de micro-ondes générant une micro-onde excitée, une source de gaz plasma, le conteneur sous vide générant le plasma (1) recevant le gaz venant de la source de gaz, un guide d'onde coaxial (3) permettant d'introduire la micro-onde d'excitation dans le conteneur et un dispositif de lancement à plaque plate parallèle (2) placé dans le conteneur (1). Ce dispositif de lancement (2) forme un creux à résonance pourvu d'une première plaque conductrice (21) raccordée au conducteur extérieur (31) du guide d'onde coaxial (3), une plaque de diélectrique (23) et une seconde plaque conductrice (22) raccordée au conducteur central (32) du guide d'onde coaxial (31) et possédant un grand nombre d'orifices pour évacuer la micro-onde évanescente du conteneur sous vide (1).
(JA)ECR方式によらないで、真空容器内のガスを、前記容器内に配置したマイクロ波共振器からのエバネッセント波により直接励起するマイクロ波プラズマ発生装置を提供する。本発明によるマイクロ波プラズマ発生装置は、励起マイクロ波を発生するマイクロ波源と、プラズマガス源と、前記プラズマガス源からガスが供給されるプラズマ発生用の真空容器1と、前記容器内に励起用のマイクロ波を導入する同軸導波管3と、および前記容器1内に配置された平行平板ランチャ2とから構成されている。平行平板ランチャ2は、前記同軸導波管3の外導体31に接続された第1の導体板21、誘電体板23、前記同軸導波管31の中心導体32に接続され、エバネッセントマイクロ波を前記真空容器1内に放出する多数の開口孔を有する第2の導体板22とから共振空洞を形成している。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)