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1. (WO2004055855) SYSTEME DE GRAVURE UNIFORME
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2004/055855    N° de la demande internationale :    PCT/US2003/038617
Date de publication : 01.07.2004 Date de dépôt international : 04.12.2003
CIB :
H01J 37/00 (2006.01), H01J 37/32 (2006.01)
Déposants : LAM RESEARCH CORPORATION [US/US]; 4650 Cushing Parkway, Fremont, CA 94538 (US) (Tous Sauf US).
LARSON, Dean, J. [US/US]; (US) (US Seulement).
KADKHODAYAN, Babak [US/US]; (US) (US Seulement).
WU, Di [CN/US]; (US) (US Seulement).
TAKESHITA, Kenji [JP/US]; (US) (US Seulement).
YEN, Bi-Ming [--/US]; (US) (US Seulement).
SU, Xingcai [CN/US]; (US) (US Seulement).
DENTY, William, M., Jr. [US/US]; (US) (US Seulement).
LOEWENHARDT, Peter [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : LARSON, Dean, J.; (US).
KADKHODAYAN, Babak; (US).
WU, Di; (US).
TAKESHITA, Kenji; (US).
YEN, Bi-Ming; (US).
SU, Xingcai; (US).
DENTY, William, M., Jr.; (US).
LOEWENHARDT, Peter; (US)
Mandataire : VILLENEUVE, Joseph, M.; Beyer Weaver & Thomas, LLP, P.O. Box 70250, Oakland, CA 94612-0250 (US)
Données relatives à la priorité :
10/318,612 13.12.2002 US
10/642,083 14.08.2003 US
10/685,739 14.10.2003 US
Titre (EN) GAS DISTRIBUTION APPARATUS AND METHOD FOR UNIFORM ETCHING
(FR) SYSTEME DE GRAVURE UNIFORME
Abrégé : front page image
(EN)An apparatus for providing different gases to different zones of a processing chamber comprises a gas supply (1880) for providing an etching gas flow; a flow splitter (1831, 1836 - 1840) in fluid connection with the gas supply for splitting the etching gas flow from the gas supply into a plurality of legs (1812, 1814, 1833, 1834) and a tuning gas system (1860- 1862, 1865 - 1868) in fluid connection to at least one of the legs of the plurality of legs (1812, 1814).
(FR)L'invention a trait à un appareil destiné à fournir différents gaz à différentes zones d'une chambre de traitement. L'invention concerne aussi une alimentation en gaz conçue pour fournir un flux de gaz de gravure. Elle se rapporte également à un répartiteur de flux qui, placé en liaison fluidique avec l'alimentation en gaz, répartit le flux de gaz de gravure provenant de l'alimentation en gaz dans une pluralité de conduits. L'invention porte enfin sur un système de gaz de réglage, qui est placé en liaison fluidique avec au moins l'un des conduits de la pluralité de conduits.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)