WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2004055600) REVELATEUR BICOMPOSANT ET PROCEDE DE FORMATION D'IMAGE AVEC CELUI-CI
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2004/055600    N° de la demande internationale :    PCT/JP2003/013519
Date de publication : 01.07.2004 Date de dépôt international : 23.10.2003
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    06.05.2004    
CIB :
G03G 9/113 (2006.01)
Déposants : MATSUSHITA ELECTRIC INDUSTRIAL CO., LTD. [JP/JP]; 1006, Oaza Kadoma, Kadoma-shi, Osaka 571-8501 (JP) (Tous Sauf US).
YUASA, Yasuhito [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
UMEDA, Kiminori [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : YUASA, Yasuhito; (JP).
UMEDA, Kiminori; (JP)
Mandataire : IKEUCHI SATO & PARTNER PATENT ATTORNEYS; 26th Floor, OAP TOWER, 8-30, Tenmabashi 1-chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 530-6026 (JP)
Données relatives à la priorité :
2002/316615 30.10.2002 JP
Titre (EN) TWO-COMPONENT DEVELOPER AND METHOD OF FORMING IMAGE THEREWITH
(FR) REVELATEUR BICOMPOSANT ET PROCEDE DE FORMATION D'IMAGE AVEC CELUI-CI
(JA) 二成分現像剤及びこれを用いた画像形成方法
Abrégé : front page image
(EN)A two-component developer comprising a toner, the toner comprising a carrier coated with a resin composition, the resin composition comprising an aminosilane coupling agent and a fluorinated silicone resin, and a wax selected from among those of the following A to D. This two-component developer realizes high OHP light transmission, offset prevention and prolonged service life. (A) synthetic wax of 80 to 120˚C endothermic peak temperature in DSC analysis and 5 to 80 mgKOH/g acid value obtained by reacting of a C4-C30 long chain alkyl alcohol, an unsaturated polyhydric carboxylic acid or anhydride thereof and an unsaturated hydrocarbon wax. (B) ester wax of 50 to 120˚C endothermic peak temperature in DSC analysis, 25 or less iodine value and 30 to 300 saponification value. (C) fatty acid amide wax selected from among C16-C24 aliphatic amide waxes and alkylene bis-fatty acid amides from saturated or 1 to 2-hydric unsaturated fatty acids. (D) fatty acid ester wax selected from among hydroxystearic acid derivatives, glycerol fatty acid esters, glycol fatty acid esters and sorbitan fatty acid esters.
(FR)La présente invention concerne un révélateur bicomposant comprenant une poudre de toner, cette poudre de toner comprenant un porteur revêtu d'une composition de résine, cette composition de résine comprenant un agent de couplage aminosilane et une résine de silicone fluorée, et une cire sélectionnée parmi celles des points A à D suivants. Ce révélateur bicomposant permet une transmission de lumière OHP élevée, une prévention offset et une durée de vie prolongée. (A) une cire synthétique de température de crête endothermique comprise entre 800 C et 1200 C dans l'analyse DSC et une valeur acide comprise entre 5 mgKOH/g et 80 mgKOH/g obtenue par réaction d'un alcool alkyle de chaîne longue en C4-C30, un acide carboxylique polyhydrique insaturé ou un anhydride de celui-ci et une cire hydrocarbure insaturée. (B) Une cire ester de température de crête endothermique comprise entre 500 C et 1200 C dans l'analyse DSC, une valeur d'iode de 25 au maximum et une valeur de saponification comprise entre 30 et 300. (C) Une cire amide gras sélectionnée parmi des cires amide aliphatiques en C16-C24 et des amides di-acide gras alkylène issus d'acides gras saturés ou insaturés de 1 ou 2-hydrique. (D) Une cire ester d'acide gras sélectionnée parmi des dérivés d'acide hydroxystéarique, des esters d'acide gras glycérol, des esters d'acide gras glycol et des esters d'acide gras sorbitane.
(JA)not available
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)