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1. WO2004055579 - FABRICATION D'ELECTRODES PIXEL A REFLEXION DIFFUSE POUR UN AFFICHAGE A CRISTAUX LIQUIDES ET PHOTOMASQUE A NIVEAU DE GRIS CORRESPONDANT

Numéro de publication WO/2004/055579
Date de publication 01.07.2004
N° de la demande internationale PCT/IB2003/005678
Date du dépôt international 28.11.2003
CIB
G02F 1/1335 2006.01
GPHYSIQUE
02OPTIQUE
FDISPOSITIFS OU SYSTÈMES DONT LE FONCTIONNEMENT OPTIQUE EST MODIFIÉ PAR CHANGEMENT DES PROPRIÉTÉS OPTIQUES DU MILIEU CONSTITUANT CES DISPOSITIFS OU SYSTÈMES ET DESTINÉS À LA COMMANDE DE L'INTENSITÉ, DE LA COULEUR, DE LA PHASE, DE LA POLARISATION OU DE LA DIRECTION DE LA LUMIÈRE, p.ex. COMMUTATION, OUVERTURE DE PORTE, MODULATION OU DÉMODULATION; TECHNIQUES NÉCESSAIRES AU FONCTIONNEMENT DE CES DISPOSITIFS OU SYSTÈMES; CHANGEMENT DE FRÉQUENCE; OPTIQUE NON LINÉAIRE; ÉLÉMENTS OPTIQUES LOGIQUES; CONVERTISSEURS OPTIQUES ANALOGIQUES/NUMÉRIQUES
1Dispositifs ou systèmes pour la commande de l'intensité, de la couleur, de la phase, de la polarisation ou de la direction de la lumière arrivant d'une source lumineuse indépendante, p.ex. commutation, ouverture de porte ou modulation; Optique non linéaire
01pour la commande de l'intensité, de la phase, de la polarisation ou de la couleur
13basés sur des cristaux liquides, p.ex. cellules d'affichage individuelles à cristaux liquides
133Dispositions relatives à la structure; Excitation de cellules à cristaux liquides; Dispositions relatives aux circuits
1333Dispositions relatives à la structure
1335Association structurelle de cellules avec des dispositifs optiques, p.ex. des polariseurs ou des réflecteurs
G02F 1/1343 2006.01
GPHYSIQUE
02OPTIQUE
FDISPOSITIFS OU SYSTÈMES DONT LE FONCTIONNEMENT OPTIQUE EST MODIFIÉ PAR CHANGEMENT DES PROPRIÉTÉS OPTIQUES DU MILIEU CONSTITUANT CES DISPOSITIFS OU SYSTÈMES ET DESTINÉS À LA COMMANDE DE L'INTENSITÉ, DE LA COULEUR, DE LA PHASE, DE LA POLARISATION OU DE LA DIRECTION DE LA LUMIÈRE, p.ex. COMMUTATION, OUVERTURE DE PORTE, MODULATION OU DÉMODULATION; TECHNIQUES NÉCESSAIRES AU FONCTIONNEMENT DE CES DISPOSITIFS OU SYSTÈMES; CHANGEMENT DE FRÉQUENCE; OPTIQUE NON LINÉAIRE; ÉLÉMENTS OPTIQUES LOGIQUES; CONVERTISSEURS OPTIQUES ANALOGIQUES/NUMÉRIQUES
1Dispositifs ou systèmes pour la commande de l'intensité, de la couleur, de la phase, de la polarisation ou de la direction de la lumière arrivant d'une source lumineuse indépendante, p.ex. commutation, ouverture de porte ou modulation; Optique non linéaire
01pour la commande de l'intensité, de la phase, de la polarisation ou de la couleur
13basés sur des cristaux liquides, p.ex. cellules d'affichage individuelles à cristaux liquides
133Dispositions relatives à la structure; Excitation de cellules à cristaux liquides; Dispositions relatives aux circuits
1333Dispositions relatives à la structure
1343Electrodes
CPC
G02F 1/133553
GPHYSICS
02OPTICS
FDEVICES OR ARRANGEMENTS, THE OPTICAL OPERATION OF WHICH IS MODIFIED BY CHANGING THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIUM OF THE DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF THE INTENSITY, COLOUR, PHASE, POLARISATION OR DIRECTION OF LIGHT, e.g. SWITCHING, GATING, MODULATING OR DEMODULATING; TECHNIQUES OR PROCEDURES FOR THE OPERATION THEREOF; FREQUENCY-CHANGING; NON-LINEAR OPTICS; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
1Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
01for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
13based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
1333Constructional arrangements; ; Manufacturing methods
1335Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
133553Reflecting elements
G02F 1/13439
GPHYSICS
02OPTICS
FDEVICES OR ARRANGEMENTS, THE OPTICAL OPERATION OF WHICH IS MODIFIED BY CHANGING THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIUM OF THE DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF THE INTENSITY, COLOUR, PHASE, POLARISATION OR DIRECTION OF LIGHT, e.g. SWITCHING, GATING, MODULATING OR DEMODULATING; TECHNIQUES OR PROCEDURES FOR THE OPERATION THEREOF; FREQUENCY-CHANGING; NON-LINEAR OPTICS; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
1Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
01for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
13based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
1333Constructional arrangements; ; Manufacturing methods
1343Electrodes
13439characterised by their electrical, optical, physical properties; materials therefor; method of making
G02F 2201/123
GPHYSICS
02OPTICS
FDEVICES OR ARRANGEMENTS, THE OPTICAL OPERATION OF WHICH IS MODIFIED BY CHANGING THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIUM OF THE DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF THE INTENSITY, COLOUR, PHASE, POLARISATION OR DIRECTION OF LIGHT, e.g. SWITCHING, GATING, MODULATING OR DEMODULATING; TECHNIQUES OR PROCEDURES FOR THE OPERATION THEREOF; FREQUENCY-CHANGING; NON-LINEAR OPTICS; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
2201Constructional arrangements not provided for in groups G02F1/00 - G02F7/00
12electrode
123pixel
G02F 2203/02
GPHYSICS
02OPTICS
FDEVICES OR ARRANGEMENTS, THE OPTICAL OPERATION OF WHICH IS MODIFIED BY CHANGING THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIUM OF THE DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF THE INTENSITY, COLOUR, PHASE, POLARISATION OR DIRECTION OF LIGHT, e.g. SWITCHING, GATING, MODULATING OR DEMODULATING; TECHNIQUES OR PROCEDURES FOR THE OPERATION THEREOF; FREQUENCY-CHANGING; NON-LINEAR OPTICS; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
2203Function characteristic
02reflective
Déposants
  • KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS N.V. [NL]/[NL] (AllExceptUS)
  • L.G. PHILIPS LCD CO. LTD. [KR]/[KR] (AllExceptUS)
  • CHAPMAN, Jeffrey, A. [GB]/[GB] (UsOnly)
  • PARK, Sung-Il [KR]/[KR] (UsOnly)
Inventeurs
  • CHAPMAN, Jeffrey, A.
  • PARK, Sung-Il
Mandataires
  • WILLIAMSON, Paul, L.
Données relatives à la priorité
0229222.514.12.2002GB
Langue de publication anglais (EN)
Langue de dépôt anglais (EN)
États désignés
Titre
(EN) MANUFACTURE OF DIFFUSELY REFLECTING PIXEL ELECTRODES FOR A LIQUID CRYSTAL DISPLAY AND GREY-TONE PHOTOMASKS THEREFOR
(FR) FABRICATION D'ELECTRODES PIXEL A REFLEXION DIFFUSE POUR UN AFFICHAGE A CRISTAUX LIQUIDES ET PHOTOMASQUE A NIVEAU DE GRIS CORRESPONDANT
Abrégé
(EN)
A reflective pixel electrode as used in a thin film transistor (TFT) active matrix liquid crystal display (AMLCD) is generally formed with an irregular upper surface to provide diffuse reflection that disperses light throughout the required viewing area. This irregular upper surface is generally formed by primarily coating a TFT plate (4) with a layer of photosensitive material (3) and then patterning this using conventional photolithography. A semi-planarising layer (8) is then applied to the plate to produce a curved surface topography. In order to reduce the number of stages in the production of the diffusely reflective pixel electrode, a grey-tone diffraction mask (11 or 27) is used in the photolithographic stage of production to produce a curved surface topography without the need for a semi-planarising layer (8).
(FR)
Une électrode pixel réfléchissante telle que celle utilisée dans un afficheur à cristaux liquides à matrice active et à transistor en couches minces (TCM) est généralement formée avec une surface supérieure irrégulière prévue pour assurer une réflexion diffuse qui disperse la lumière dans toute la zone de visualisation requise. Cette surface supérieure irrégulière est généralement formée d'abord par le revêtement d'une plaque TCM (4) avec une couche de matériau photosensible (3) puis par le façonnage par photolithographie classique. Une couche de semi-planarisation (8) est ensuite appliquée sur la plaque pour produire une topographie de surface courbe. Afin de réduire le nombre d'étapes dans la production de l'électrode pixel à réflexion diffuse, un masque (11 ou 27) de diffraction à niveau de gris est utilisé dans l'étape de production photolithographique pour produire une topographie à surface courbe sans devoir utiliser de couche de semi-planarisation (8).
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