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1. (WO2004054703) REACTEUR A PLASMA ET PLAQUE D'ELECTRODE UTILISEE DANS CE DERNIER
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2004/054703    N° de la demande internationale :    PCT/KR2003/002742
Date de publication : 01.07.2004 Date de dépôt international : 13.12.2003
CIB :
B01D 53/32 (2006.01), B01J 19/08 (2006.01), B01J 19/24 (2006.01), F01N 3/08 (2006.01), H05H 1/24 (2006.01)
Déposants : BLUE PLANET CO., LTD. [KR/KR]; Oh Building, 80-9, Yonhee-dong, Seodaemoon-gu, Seoul 120-110 (KR) (Tous Sauf US).
KIM, Kyung Woon [KR/KR]; (KR) (US Seulement).
CHUN, Kwang Min [KR/KR]; (KR) (US Seulement).
JEONG, Dong Hoon [KR/KR]; (KR) (US Seulement).
SIM, Woo Chan [KR/KR]; (KR) (US Seulement).
JYOUNG, Young Sik [KR/KR]; (KR) (US Seulement).
LEE, Kyo Seung [KR/KR]; (KR) (US Seulement).
SON, Seong Do [KR/KR]; (KR) (US Seulement)
Inventeurs : KIM, Kyung Woon; (KR).
CHUN, Kwang Min; (KR).
JEONG, Dong Hoon; (KR).
SIM, Woo Chan; (KR).
JYOUNG, Young Sik; (KR).
LEE, Kyo Seung; (KR).
SON, Seong Do; (KR)
Mandataire : KIM, Seon-Min; Lee & Kim, 5th Floor, New-Seoul Building, 828-8, Yoksam-dong, Kangnam-ku, Seoul 135-935 (KR)
Données relatives à la priorité :
10-2002-0079679 13.12.2002 KR
10-2003-0090117 11.12.2003 KR
Titre (EN) PLASMA REACTOR AND ELECTRODE PLATE USED IN THE SAME
(FR) REACTEUR A PLASMA ET PLAQUE D'ELECTRODE UTILISEE DANS CE DERNIER
Abrégé : front page image
(EN)A plasma reactor includes more than two electrode plates 1, each electrode plate 1 including a dielectric member and an electrode 16 protected from a discharge space 50 by the dielectric member and having an electric-connecting coupling hole on one side and a non-electric-connecting coupling hole on the other side, the electric-connecting coupling hole having a shoulder 7 on which the electrode 16 is exposed, the electrode plates 1 being stacked such that a gap is interposed between the adjacent electrode plates 1 and the electric-connecting coupling hole and the non-electric-connecting coupling hole are alternately arranged; spacers 32, 34 installed between the adjacent electrode plates; and an electric-conductive coupler 40 which is inserted through an array of the electric-connecting coupling hole and the non-electric-connecting coupling hole to couple the electrode plates 1 together, and is caught into contact with the shoulder 7 to be electric-connected with the electrode 16; wherein electricity is applied through the electric-conductive coupler 40 to the electrode 16 to generate a plasma discharge.
(FR)Le réacteur à plasma selon l'invention comprend : plus de deux plaques d'électrodes (1), chaque plaque d'électrode (1) comprenant un élément diélectrique et une électrode (16) protégée d'un espace de décharge (50) par l'élément diélectrique et présentant un trou de raccordement électrique d'un côté et un trou de raccordement non-électrique de l'autre côté, le trou de raccordement électrique présentant un épaulement (7) sur lequel l'électrode (16) est exposée, les plaques d'électrodes (1) étant empilées de telle sorte qu'une distance d'isolement est présente entre les plaques d'électrodes (1) adjacentes et le trou de raccordement électrique et le trou de raccordement non-électrique sont disposés de manière alternée ; des entretoises (32, 34) installées entre les plaques d'électrodes adjacentes ; et un coupleur électroconducteur (40) inséré dans un réseau constitué du trou de raccordement électrique et le trou de raccordement non-électrique afin de coupler ensemble les plaques d'électrodes (1), et qui est mis en contact avec l'épaulement (7) pour être connecté électriquement à l'électrode (16) ; de l'électricité étant appliquée par l'intermédiaire du coupleur électroconducteur (40) sur l'électrode (16) afin de générer une décharge plasma.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : coréen (KO)