Commentaires
Paramétrages

Paramétrages

Aller à Demande

1. WO2004031854 - SYSTEME D'ECLAIRAGE POUR UNE LONGUEUR D'ONDE = A 193 NM, DOTE DE CAPTEURS POUR LA DETERMINATION DE L'ECLAIRAGE

Lien permanent
Numéro de publication WO/2004/031854
Date de publication 15.04.2004
N° de la demande internationale PCT/EP2003/010605
Date du dépôt international 24.09.2003
CIB
G03F 7/20 2006.01
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20Exposition; Appareillages à cet effet
CPC
G03F 7/70141
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70058Mask illumination systems
70141Illumination system adjustment, alignment during assembly of illumination system
G03F 7/70558
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70483Information management, control, testing, and wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
7055Exposure light control, in all parts of the microlithographic apparatus, e.g. pulse length control, light interruption
70558Dose control, i.e. achievement of a desired dose
G03F 7/7085
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
708Construction of apparatus, e.g. environment, hygiene aspects or materials
7085Detection arrangement, e.g. detectors of apparatus alignment possibly mounted on wafers, exposure dose, photo-cleaning flux, stray light, thermal load
Déposants
  • CARL ZEISS SMT AG [DE]/[DE] (AllExceptUS)
  • ASML Netherlands B.V. [NL]/[NL] (AllExceptUS)
  • SINGER, Wolfgang [DE]/[DE] (UsOnly)
  • ANTONI, Martin [DE]/[DE] (UsOnly)
  • WANGLER, Johannes [DE]/[DE] (UsOnly)
  • WEISS, Markus [DE]/[DE] (UsOnly)
  • BANINE, Vadim, Yevgenyevich [NL]/[NL] (UsOnly)
  • DIERICHS, Marcel [NL]/[NL] (UsOnly)
  • MOORS, Roel [NL]/[NL] (UsOnly)
  • SCHUSTER, Karl-Heinz [DE]/[DE] (UsOnly)
Inventeurs
  • SINGER, Wolfgang
  • ANTONI, Martin
  • WANGLER, Johannes
  • WEISS, Markus
  • BANINE, Vadim, Yevgenyevich
  • DIERICHS, Marcel
  • MOORS, Roel
  • SCHUSTER, Karl-Heinz
Mandataires
  • DR. WEITZEL & PARTNER
Données relatives à la priorité
102 45 625.930.09.2002DE
103 37 766.214.08.2003DE
Langue de publication allemand (DE)
Langue de dépôt allemand (DE)
États désignés
Titre
(DE) BELEUCHTUNGSSYSTEM FÜR EINE WELLENLÄNGE ≤ 193 NM MIT SENSOREN ZUR BESTIMMUNG DER AUSLEUCHTUNG
(EN) ILLUMINATION SYSTEM FOR A WAVELENGTH = 193 NM, COMPRISING SENSORS FOR DETERMINING THE ILLUMINATION
(FR) SYSTEME D'ECLAIRAGE POUR UNE LONGUEUR D'ONDE = A 193 NM, DOTE DE CAPTEURS POUR LA DETERMINATION DE L'ECLAIRAGE
front page image
Abrégé
(DE)
Die Erfindung betrifft ein Beleuchtungssystem für Wellenlängen ≤ 193 nm, wobei das Beleuchtungssystem eine Lichtquelle umfasst, die in einer Ebene eine vorbestimmte Ausleuchtung zur Verfügung stellt und a) eine erste optische Komponente mit ersten Rasterelementen, wobei die ersten Rasterelemente auf einem Trägerelement angeordnet sind und die erste optische Komponente in oder nahe der Ebene, in der die Ausleuchtung zur Verfügung gestellt wird, angeordnet ist. Die Erfindung ist dadurch gekennzeichnet, dass i) auf dem Trägerelement der ersten optischen Komponente mindestens ein Sensor zur Detektion von auf das Trägerelement auftreffendem Licht angeordnet ist. ii) Spiegel des Beleuchtungssystems durch Auswertung der Sensorsignale so gestellt werden, dass die Lage und Stärke der Beleuctung konstant gehalten werden.
(EN)
The invention relates to an illumination system for wavelengths ≤ 193 nm, comprising a light source, which provides predetermined illumination on one plane and a first optical component with first grid elements, which are arranged on a support element, said first optical component being located on or in close proximity to the plane, on which the illumination is provided. The invention is characterised in that at least one sensor for detecting the light that strikes the support element is positioned on said support element of the first optical component and that mirrors of the illumination system are set by the evaluation of the sensor signals, in such a way that the position and intensity of the illumination remain constant.
(FR)
Système d'éclairage pour une longueur d'onde ≤ à 193 nm, comportant une source de lumière qui fournit dans un plan un éclairage prédéterminé, et un premier composant optique doté de premiers éléments grilles, les premiers éléments grilles étant placés sur un élément de support et le premier composant optique se trouvant dans le plan dans lequel est fourni l'éclairage, ou à proximité de ce plan. La présente invention est caractérisée en ce qu'au moins un capteur destiné à la détection de la lumière incidente sur l'élément de support est placé sur ledit élément de support du premier élément, et en ce que des miroirs du système d'éclairage sont réglés, à l'aide de l'évaluation des signaux de capteur, de manière telle que la position et l'intensité de l'éclairage sont maintenues constantes.
Également publié en tant que
AU2003277893
JP2006501660
EP2003769309
US20050274897
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international
# -