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1. WO2004027810 - SYSTEME ET PROCEDE DE RETRAIT DE MATIERES D'UN ARTICLE

Numéro de publication WO/2004/027810
Date de publication 01.04.2004
N° de la demande internationale PCT/US2003/029733
Date du dépôt international 22.09.2003
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 15.04.2004
CIB
B08B 7/00 2006.01
BTECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
08NETTOYAGE
BNETTOYAGE EN GÉNÉRAL; PROTECTION CONTRE LA SALISSURE EN GÉNÉRAL
7Nettoyage par des procédés non prévus dans une seule autre sous-classe ou un seul groupe de la présente sous-classe
B08B 7/04 2006.01
BTECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
08NETTOYAGE
BNETTOYAGE EN GÉNÉRAL; PROTECTION CONTRE LA SALISSURE EN GÉNÉRAL
7Nettoyage par des procédés non prévus dans une seule autre sous-classe ou un seul groupe de la présente sous-classe
04par une combinaison d'opérations
G01N 23/02 2006.01
GPHYSIQUE
01MÉTROLOGIE; TESTS
NRECHERCHE OU ANALYSE DES MATÉRIAUX PAR DÉTERMINATION DE LEURS PROPRIÉTÉS CHIMIQUES OU PHYSIQUES
23Recherche ou analyse des matériaux par l'utilisation de rayonnement (ondes ou particules), p.ex. rayons X ou neutrons, non couvertes par les groupes G01N3/-G01N17/201
02en transmettant la radiation à travers le matériau
H01J 1/00 2006.01
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
JTUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
1Détails des électrodes, des moyens de commande magnétiques, des écrans, ou du montage ou de l'espacement de ces éléments, communs au moins à deux types de base de tubes ou lampes à décharge
H01L 21/306 2006.01
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
LDISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
02Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives
04les dispositifs présentant au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface, p.ex. une jonction PN, une région d'appauvrissement, ou une région de concentration de porteurs de charges
18les dispositifs ayant des corps semi-conducteurs comprenant des éléments du groupe IV de la classification périodique, ou des composés AIIIBV, avec ou sans impuretés, p.ex. des matériaux de dopage
30Traitement des corps semi-conducteurs en utilisant des procédés ou des appareils non couverts par les groupes H01L21/20-H01L21/26162
302pour changer leurs caractéristiques physiques de surface ou leur forme, p.ex. gravure, polissage, découpage
306Traitement chimique ou électrique, p.ex. gravure électrolytique
CPC
B08B 7/0057
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
08CLEANING
BCLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
7Cleaning by methods not provided for in a single other subclass or a single group in this subclass
0035by radiant energy, e.g. UV, laser, light beam or the like
0057by ultraviolet radiation
B09B 5/00
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
09DISPOSAL OF SOLID WASTE; RECLAMATION OF CONTAMINATED SOIL
BDISPOSAL OF SOLID WASTE
5Operations not covered by single other subclass or by a single other group in this subclass
C22B 7/001
CCHEMISTRY; METALLURGY
22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
BPRODUCTION AND REFINING OF METALS
7Working up raw materials other than ores, e.g. scrap, to produce non-ferrous metals and compounds thereof; ; Methods of a general interest or applied to the winning of more than two metals
001Dry processes
G03F 7/42
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
42Stripping or agents therefor
G03F 7/427
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
42Stripping or agents therefor
427using plasma means only
H01L 21/02071
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
LSEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
21Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
02041Cleaning
02057Cleaning during device manufacture
02068during, before or after processing of conductive layers, e.g. polysilicon or amorphous silicon layers
02071the processing being a delineation, e.g. RIE, of conductive layers
Déposants
  • JOHNSTON, Thomas [US]/[US]
  • VAUGHN, Timothy [US]/[US]
  • ATWELL, Pete [US]/[US]
Inventeurs
  • JOHNSTON, Thomas
  • VAUGHN, Timothy
  • ATWELL, Pete
Mandataires
  • WIESE, William
Données relatives à la priorité
60/412,60420.09.2002US
Langue de publication anglais (EN)
Langue de dépôt anglais (EN)
États désignés
Titre
(EN) SYSTEM AND METHOD FOR REMOVAL OF MATERIALS FROM AN ARTICLE
(FR) SYSTEME ET PROCEDE DE RETRAIT DE MATIERES D'UN ARTICLE
Abrégé
(EN)
The system and method of the present invention removes organic and organometallic materials from an article in reduced pressure atmosphere containing ozone and activated oxygen. A dielectric barrier discharge lamp induces an intermolecular molecule energy transfert to the organic and organometallic material. The dielectric barrier discharge lamp emits vacuum ultaviolet rays having a wavelength of about 172 nm that produce a photochemical reaction with the oxygen-containing gas to generate ozone and the activated oxygen. The organic and organometallic material is then attached by the ozone and activated oxygen.
(FR)
L'invention concerne un système et un procédé permettant d'enlever des matières organiques et organométalliques d'un article, dans une atmosphère à pression réduite contenant de l'ozone et de l'oxygène activé. Une lampe à décharge à barrière diélectrique induit le transfert d'énergie moléculaire entre les molécules vers la matière organique et organométallique. La lampe à décharge à barrière diélectrique émet des rayons ultraviolets extrêmes possédant une longueur d'onde d'environ 172 nm, produisant une réaction photochimique avec le gaz contenant de l'oxygène, de sorte que de l'ozone et de l'oxygène activé soient générés. La matière organique et organométallique est ensuite fixée par l'ozone et l'oxygène activé.
Également publié en tant que
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