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1. WO2004010167 - PROCEDE DE GRAVURE DE MASQUE A SURFACE DEFINIE DE MANIERE HOLOGRAPHIQUE ET STRUCTURES OPTIQUES GRAVEES

Numéro de publication WO/2004/010167
Date de publication 29.01.2004
N° de la demande internationale PCT/US2003/022608
Date du dépôt international 18.07.2003
CIB
H01L 21/302 2006.01
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
LDISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
02Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives
04les dispositifs présentant au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface, p.ex. une jonction PN, une région d'appauvrissement, ou une région de concentration de porteurs de charges
18les dispositifs ayant des corps semi-conducteurs comprenant des éléments du groupe IV de la classification périodique, ou des composés AIIIBV, avec ou sans impuretés, p.ex. des matériaux de dopage
30Traitement des corps semi-conducteurs en utilisant des procédés ou des appareils non couverts par les groupes H01L21/20-H01L21/26162
302pour changer leurs caractéristiques physiques de surface ou leur forme, p.ex. gravure, polissage, découpage
G02F 1/13 2006.01
GPHYSIQUE
02OPTIQUE
FDISPOSITIFS OU SYSTÈMES DONT LE FONCTIONNEMENT OPTIQUE EST MODIFIÉ PAR CHANGEMENT DES PROPRIÉTÉS OPTIQUES DU MILIEU CONSTITUANT CES DISPOSITIFS OU SYSTÈMES ET DESTINÉS À LA COMMANDE DE L'INTENSITÉ, DE LA COULEUR, DE LA PHASE, DE LA POLARISATION OU DE LA DIRECTION DE LA LUMIÈRE, p.ex. COMMUTATION, OUVERTURE DE PORTE, MODULATION OU DÉMODULATION; TECHNIQUES NÉCESSAIRES AU FONCTIONNEMENT DE CES DISPOSITIFS OU SYSTÈMES; CHANGEMENT DE FRÉQUENCE; OPTIQUE NON LINÉAIRE; ÉLÉMENTS OPTIQUES LOGIQUES; CONVERTISSEURS OPTIQUES ANALOGIQUES/NUMÉRIQUES
1Dispositifs ou systèmes pour la commande de l'intensité, de la couleur, de la phase, de la polarisation ou de la direction de la lumière arrivant d'une source lumineuse indépendante, p.ex. commutation, ouverture de porte ou modulation; Optique non linéaire
01pour la commande de l'intensité, de la phase, de la polarisation ou de la couleur
13basés sur des cristaux liquides, p.ex. cellules d'affichage individuelles à cristaux liquides
CPC
G02B 2006/12083
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
6Light guides
10of the optical waveguide type
12of the integrated circuit kind
12083Constructional arrangements
G02B 27/42
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
27Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
42Diffraction optics ; , i.e. systems including a diffractive element being designed for providing a diffractive effect
G02B 5/1857
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
5Optical elements other than lenses
18Diffraction gratings
1847Manufacturing methods
1857using exposure or etching means, e.g. holography, photolithography, exposure to electron or ion beams
G03F 7/001
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
0005Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
001Phase modulating patterns, e.g. refractive index patterns
G03F 7/405
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
40Treatment after imagewise removal, e.g. baking
405Treatment with inorganic or organometallic reagents after imagewise removal
Déposants
  • THE REGENTS OF THE UNIVERSITY OF CALIFORNIA [US]/[US] (AllExceptUS)
  • FAINMAN, Yeshaiahu [US]/[US] (UsOnly)
  • NAKAGAWA, Wataru [US]/[US] (UsOnly)
  • CHEN, Chyong-Hua [--]/[US] (UsOnly)
  • SUN, Pang-Chen [--]/[US] (UsOnly)
  • PANG, Lin [CN]/[US] (UsOnly)
Inventeurs
  • FAINMAN, Yeshaiahu
  • NAKAGAWA, Wataru
  • CHEN, Chyong-Hua
  • SUN, Pang-Chen
  • PANG, Lin
Mandataires
  • FALLON, Steven, P.
Données relatives à la priorité
60/397,00518.07.2002US
60/399,76931.07.2002US
Langue de publication anglais (EN)
Langue de dépôt anglais (EN)
États désignés
Titre
(EN) HOLOGRAPHIC SURFACE MASK ETCHING AND OPTICAL STRUCTURES
(FR) PROCEDE DE GRAVURE DE MASQUE A SURFACE DEFINIE DE MANIERE HOLOGRAPHIQUE ET STRUCTURES OPTIQUES GRAVEES
Abrégé
(EN)
The invention is directed to a method for etching a solid state material to create a surface relief pattern. A resist layer is formed on the surface of the solid state material. The photoresist layer is holographically patterned to form a patterned mask. The pattern is then transferred into the solid state material by a dry etching process. The invention is especially useful for forming optical nanostructures. In preferred embodiments, a direct write process, such as e-beam lithography, is used to define defects and functional elements, such as waveguides and cavities.
(FR)
L'invention concerne un procédé de gravure d'un matériau à l'état solide permettant de créer un motif à relief de surface. Une couche de résine photosensible est formée sur la surface du matériau à l'état solide. Cette couche de résine photosensible est structurée de manière holographique afin que soit formé un masque à motif. Le motif est ensuite transféré dans ledit matériau à l'état solide par un procédé de gravure à sec. L'invention s'avère particulièrement utile pour la formation de nanostructures optiques. Dans des modes de réalisation préférés, un procédé d'écriture directe, de type lithographie par faisceau d'électrons, est utilisé pour définir des défauts et des éléments fonctionnels, de type guides d'ondes et cavités.
Également publié en tant que
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