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1. WO2004008245 - PROCEDE ET SYSTEME DE CONTROLE DE MASQUES EN FONCTION DU CONTEXTE

Numéro de publication WO/2004/008245
Date de publication 22.01.2004
N° de la demande internationale PCT/US2003/021995
Date du dépôt international 14.07.2003
CIB
G03F 1/00 2006.1
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
1Originaux pour la production par voie photomécanique de surfaces texturées, p.ex. masques, photomasques ou réticules; Masques vierges ou pellicules à cet effet; Réceptacles spécialement adaptés à ces originaux; Leur préparation
G03F 9/00 2006.1
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
9Mise en registre ou positionnement d'originaux, de masques, de trames, de feuilles photographiques, de surfaces texturées, p.ex. automatique
G06F 7/60 2006.1
GPHYSIQUE
06CALCUL; COMPTAGE
FTRAITEMENT ÉLECTRIQUE DE DONNÉES NUMÉRIQUES
7Méthodes ou dispositions pour le traitement de données en agissant sur l'ordre ou le contenu des données manipulées
60Méthodes ou dispositions pour effectuer des calculs en utilisant une représentation numérique non codée, c. à d. une représentation de nombres sans base; Dispositifs de calcul utilisant une combinaison de représentations de nombres codées et non codées
G06F 17/10 2006.1
GPHYSIQUE
06CALCUL; COMPTAGE
FTRAITEMENT ÉLECTRIQUE DE DONNÉES NUMÉRIQUES
17Équipement ou méthodes de traitement de données ou de calcul numérique, spécialement adaptés à des fonctions spécifiques
10Opérations mathématiques complexes
CPC
G03F 1/84
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
1Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
68Preparation processes not covered by groups G03F1/20 - G03F1/50
82Auxiliary processes, e.g. cleaning or inspecting
84Inspecting
Déposants
  • CADENCE DESIGN SYSTEMS, INC. [US]/[US]
Inventeurs
  • PACK, Robert, C.
  • SHEFFER, Louis, K.
Mandataires
  • MEI, Peter, C.
Données relatives à la priorité
60/395,46712.07.2002US
Langue de publication Anglais (en)
Langue de dépôt anglais (EN)
États désignés
Titre
(EN) METHOD AND SYSTEM FOR CONTEXT-SPECIFIC MASK INSPECTION
(FR) PROCEDE ET SYSTEME DE CONTROLE DE MASQUES EN FONCTION DU CONTEXTE
Abrégé
(EN) A method for inspecting lithography masks (108) includes generating integrated circuit design data (102) and using context information from the integrated circuit design data to inspect a mask.
(FR) L'invention concerne un procédé de contrôle de masques pour lithographie consistant à produire des données de conception de circuits intégrés et à utiliser des informations relatives au contexte et issues des données de conception de circuits intégrés pour contrôler un masque.
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