Traitement en cours

Veuillez attendre...

Paramétrages

Paramétrages

Aller à Demande

1. WO2003107095 - DISPOSITIF PERMETTANT DE POSITIONNER UN ELEMENT OPTIQUE DANS UNE STRUCTURE

Numéro de publication WO/2003/107095
Date de publication 24.12.2003
N° de la demande internationale PCT/EP2003/006015
Date du dépôt international 07.06.2003
CIB
G02B 7/00 2006.1
GPHYSIQUE
02OPTIQUE
BÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
7Montures, moyens de réglage ou raccords étanches à la lumière pour éléments optiques
G03F 7/20 2006.1
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20Exposition; Appareillages à cet effet
CPC
G02B 7/003
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
7Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
003Alignment of optical elements
G03F 7/70258
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70216Systems for imaging mask onto workpiece
70258Projection system adjustment, alignment during assembly of projection system
G03F 7/70825
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
708Construction of apparatus, e.g. environment, hygiene aspects or materials
70808Construction details, e.g. housing, load-lock, seals, windows for passing light in- and out of apparatus
70825Mounting of individual elements, e.g. mounts, holders or supports
Déposants
  • CARL ZEISS SMT AG [DE]/[DE]
Inventeurs
  • WEBER, Ulrich
  • HOLDERER, Hubert
  • REXHAEUSER, Dirk
Mandataires
  • LORENZ, Werner
Données relatives à la priorité
102 26 655.714.06.2002DE
Langue de publication Allemand (de)
Langue de dépôt allemand (DE)
États désignés
Titre
(DE) VORRICHTUNG ZUR POSITIONIERUNG EINES OPTISCHEN ELEMENTES IN EINER STRUKTUR
(EN) DEVICE FOR POSITIONING AN OPTICAL ELEMENT IN A STRUCTURE
(FR) DISPOSITIF PERMETTANT DE POSITIONNER UN ELEMENT OPTIQUE DANS UNE STRUCTURE
Abrégé
(DE) In einer Vorrichtung zur Positionierung eines optischen Ele­mentes (21) in einer Struktur, insbesondere in einem Objektivgehäuse eines Projektionsobjektives (1) für die Mikrolithographie, ist das optische Element (21) über Anbindungselemente (22) mit der Struktur verbunden. Die Position des optischen Elementes (21) wird durch Verstellanbindungen (23) eingestellt. Die Anbindungselemente (22) sind derart angeordnet und die Verstellanbindungen (23) derart betätigbar, dass das optische Element (21) in drei voneinander unabhängige Achsen (x-, y-, z-Achse) kippbar und zusätzlich in eine Achsrichtung (z-Achse) translatorisch verschiebbar ist.
(EN) The invention relates to a device for positioning an optical element (21) in a structure, in particular in a lens housing of a projection lens (1) for microlithography. According to the invention, the optical element (21) is connected to the structure by means of linking elements (22). The position of the optical element (21) is adjusted by adjustment links (23). The linking elements (22) are arranged and the adjustment links (23) actuated in such a way that the optical element (21) can be tilted on three independent axes (x-, y-, z-axis) and can be displaced in a translational manner along one axis (z-axis).
(FR) Dans un dispositif de positionnement d'un élément optique (21) dans une structure, notamment dans un boîtier d'un objectif de projection (1) destiné à la microlithographie, un élément optique (21) est relié à la structure par des éléments de liaison (22). La position de l'élément optique (21) est réglé par des liaisons de réglage (23). Les éléments de liaison (22) sont disposés et les liaisons de réglage (23) sont actionnables de telle façon que l'élément optique (21) puisse basculer dans trois axes indépendants les uns des autres (axe x, axe y, axe z) et en plus se déplacer en translation dans une direction d'axe (axe z).
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international