WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2003090264) SYSTEME DE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS A SEMICONDUCTEURS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2003/090264    N° de la demande internationale :    PCT/JP2003/004716
Date de publication : 30.10.2003 Date de dépôt international : 14.04.2003
CIB :
H01L 21/00 (2006.01)
Déposants : TOKYO ELECTRON LIMITED [JP/JP]; 3-6, Akasaka 5-chome, Minato-ku, Tokyo 107-8481 (JP) (Tous Sauf US).
NAGAOKA, Hideki [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
MOROKATA, Aya [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SASAKI, Norikazu [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SHIMURA, Kazushige [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
MIZUSAWA, Kenetsu [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
OBI, Akira [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
ABE, Masaaki [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : NAGAOKA, Hideki; (JP).
MOROKATA, Aya; (JP).
SASAKI, Norikazu; (JP).
SHIMURA, Kazushige; (JP).
MIZUSAWA, Kenetsu; (JP).
OBI, Akira; (JP).
ABE, Masaaki; (JP)
Mandataire : SUZUYE, Takehiko; c/o SUZUYE & SUZUYE, 7-2, Kasumigaseki 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 100-0013 (JP)
Données relatives à la priorité :
2002-119780 22.04.2002 JP
2003-001603 07.01.2003 JP
Titre (EN) SEMICONDUCTOR PROCESSING SYSTEM
(FR) SYSTEME DE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS A SEMICONDUCTEURS
Abrégé : front page image
(EN)A semiconductor processing system (2) comprising a flow-rate measuring unit (6) for inspecting flow-rate controllers (38A-38E) that control process-gas flow rates. The flow-rate measuring unit (6) has an inspection container (54) having a specified capacity and being disposed on a gas bypass line (52) for connecting a gas supply line (30) with an exhaust line (22) so as to bypass a processing chamber (8), with a pressure gage (58) disposed to detect pressure in the container (54). A flow-rate computing unit (64) is disposed to determine gas flow rates at flow-rate controllers based on a pressure rise rate detected by the pressure gage (58). System control units (44, 62) control the step of supplying an inert gas into the container (54) to purge it before or after process gas is fed into the container (54).
(FR)L'invention concerne un système de traitement de dispositifs à semiconducteurs (2), comprenant une unité de mesure de débit (6) servant à surveiller des régulateurs de débit (38A-38E) qui régulent des débits de gaz de procédé. Ladite unité de mesure de débit (6) présente un contenant de surveillance (54) possédant une capacité spécifique et disposé sur une conduite de dérivation (52) servant à raccorder une conduite d'alimentation en gaz (30) à une conduite d'évacuation (22) de façon à contourner une chambre de traitement (8), un manomètre (58) étant disposé de manière à détecter la pression régnant dans le contenant (54). Une unité de calcul de débit (64) est placée de manière à déterminer des débits de gaz au niveau des régulateurs de débit, sur la base d'un taux d'élévation de pression détecté par le manomètre (58). Les unités de commande de système (44, 62) commandent l'étape d'acheminement d'un gaz inerte dans le contenant (54) de façon à le purger avant ou après l'introduction du gaz de procédé dans ledit contenant (54).
États désignés : CN, US.
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)