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1. (WO2003089873) PROCEDES ET PRODUITS LOGICIELS INFORMATIQUES PERMETTANT LA CARACTERISATION D'UNE STRUCTURE CRISTALLINE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2003/089873    N° de la demande internationale :    PCT/US2003/010565
Date de publication : 30.10.2003 Date de dépôt international : 07.04.2003
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    14.11.2003    
CIB :
G01B 11/06 (2006.01)
Déposants : SEH AMERICA, INC. [US/US]; 4111 N.E. 112th Avenue, Vancouver, WA 98682 (US) (Tous Sauf US).
MARTIN, Stephen, L. [US/US]; (US) (US Seulement).
OBA, Shigeru [JP/US]; (US) (US Seulement).
SUZUKI, Yoshinori [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : MARTIN, Stephen, L.; (US).
OBA, Shigeru; (US).
SUZUKI, Yoshinori; (JP)
Mandataire : GOSNELL, Guy, R.; Alston & Bird LLP, Bank of America Plaza, Suite 4000, 101 South Tryon Street, Charlotte, NC 28280-4000 (US)
Données relatives à la priorité :
10/124,901 18.04.2002 US
Titre (EN) METHODS AND COMPUTER PROGRAM PRODUCTS FOR CHARACTERIZING A CRYSTALLINE STRUCTURE
(FR) PROCEDES ET PRODUITS LOGICIELS INFORMATIQUES PERMETTANT LA CARACTERISATION D'UNE STRUCTURE CRISTALLINE
Abrégé : front page image
(EN)Methods and computer program products are provided for analyzing a crystalline structure, such as a wafer or an epitaxial layer in more detail, including the portion of the crystalline structure proximate the edge. The methods and computer program products of one aspect determine the average thickness and the normalized profile of a crystalline structure with enhanced detail. Additionally, the method and computer program product of another aspect represent the profile proximate the edge of the crystalline structure with a pair of lines that are selected to permit the profile of the crystalline structure proximate the edge of the crystalline structure to be characterized in more detail. Further, the method of yet another aspect permits the average edge profile for a plurality of crystalline structure to be defined.
(FR)L'invention concerne des procédés et des produits logiciels informatiques permettant d'analyser une structure cristalline, notamment une tranche ou une couche épitaxiale plus détaillée, comprenant la partie de la structure cristalline à proximité du bord. Les procédés et produits logiciels informatiques déterminent, selon une variante, l'épaisseur moyenne et le profil normalisé d'une structure cristalline aux détails améliorés. Par ailleurs, selon une autre variante, le procédé et le produit logiciel informatique représentent le profil à proximité du bord de la structure cristalline ayant une paire de lignes sélectionnées de manière à permettre une caractérisation plus détaillée du profil de la structure cristalline à proximité du bord de ladite structure. Le procédé, selon une autre variante, de définir le profil de bord moyen pour une pluralité de structures cristallines.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NI, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)