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1. (WO2003088324) PROCEDE ET APPAREIL DE NETTOYAGE DE PLAQUETTE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2003/088324    N° de la demande internationale :    PCT/US2003/011422
Date de publication : 23.10.2003 Date de dépôt international : 11.04.2003
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    03.11.2003    
CIB :
H01L 21/00 (2006.01)
Déposants : APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; (a corporation of Delawere), P.O. Box 450A, Santa Clara, CA 95052 (US)
Inventeurs : THAKUR, Randhir; (US).
VERHAVERBEKE, Steven; (US).
TRUMAN, J., Kelly; (US)
Mandataire : BERNADICOU, Michael, A.; Blakely, Sokoloff, Taylor & Zafman LLP, 12400 Wilshire Boulevard, 7th floor, Los Angeles, CA 90025 (US)
Données relatives à la priorité :
10/121,635 11.04.2002 US
10/366,103 12.02.2003 US
Titre (EN) METHOD AND APPARATUS FOR WAFER CLEANING
(FR) PROCEDE ET APPAREIL DE NETTOYAGE DE PLAQUETTE
Abrégé : front page image
(EN)A single wafer cleaning apparatus that includes a rotatable bracket that can hold a wafer, a rinse fluid having a first surface tension, a second fluid having a second surface tension lower than the first surface tension, a first nozzle capable of applying the rinse fluid at a first location on the wafer positioned in the bracket, second nozzle capable of applying the second fluid at a second location on the wafer where the second location is inboard of the first location, and the first nozzle and the second nozzle are capable of moving across the wafer to translate the first location and the second location from the wafer center to the wafer outer edge. A single wafer cleaning apparatus that includes a rotatable bracket that can hold and rotate a wafer and that also includes a UV light tube capable of being positioned parallel to, and a short distance from, a wafer top surface to radiate oxygen above the wafer top surface with UV light rays to produce ozone.
(FR)Cette invention concerne un appareil de nettoyage de plaquette unique comprenant : un support rotatif pouvant accueillir une plaquette ; un fluide de rinçage présentant une première tension de surface ; un second fluide présentant une seconde tension de surface qui est inférieure à la première tension de surface ; une première buse pouvant appliquer le fluide de rinçage à un premier emplacement sur la plaquette positionnée sur le support ; ainsi qu'une seconde buse pouvant appliquer le second fluide à un second emplacement sur la plaquette, lequel second emplacement se trouve à l'intérieur du premier. La première et la seconde buse peuvent se déplacer sur la plaquette afin de déplacer le premier et le second emplacement du centre de la plaquette vers le bord extérieur de celle-ci. Cette invention concerne également un appareil de nettoyage de plaquette unique comprenant : un support rotatif pouvant accueillir et faire tourner une plaquette ; ainsi qu'un tube de lumière ultraviolette pouvant être positionné de manière qu'il soit parallèle à la surface supérieure de la plaquette et à une courte distance de celle-ci afin que de l'oxygène soit rayonné au dessus de la surface supérieure de la plaquette avec des rayons ultraviolets pour qu'on obtienne une production d'ozone.
États désignés : CN, JP, KR, SG.
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, RO, SE, SI, SK, TR).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)