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1. (WO2003088292) MICRO-INTERRUPTEUR A DECLENCHEMENT AUTOMATIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2003/088292    N° de la demande internationale :    PCT/GB2003/001470
Date de publication : 23.10.2003 Date de dépôt international : 04.04.2003
CIB :
H01H 1/00 (2006.01), H01H 61/02 (2006.01), H01H 71/14 (2006.01)
Déposants : MICROSAIC SYSTEMS LIMITED [GB/GB]; Department of Electrical and Electronic Engineering Imperial College Exhibition Road London SW7 2BT (GB) (Tous Sauf US).
YEATMAN, Eric [GB/GB]; (GB) (US Seulement)
Inventeurs : YEATMAN, Eric; (GB)
Mandataire : MOORE, Barry; Hanna Moore & Curley 135 Westhall Road Warlingham Surrey CR6 9HJ (GB)
Données relatives à la priorité :
0208175.0 09.04.2002 GB
Titre (EN) MICROENGINEERED SELF-RELEASING SWITCH
(FR) MICRO-INTERRUPTEUR A DECLENCHEMENT AUTOMATIQUE
Abrégé : front page image
(EN)A MEMS (microelectromechanical system) electrical switch device is provided for circuit protection applications. The device includes a mechanical latching mechanism by which the switch is held in the closed position, and a mechanism by which this latch is released when the load current passing through the device reaches or exceeds some desired magnitude. In addition, a mechanism is provided by which the switch may be reset to its closed position by applying an electrical control voltage to certain terminals of the device. A number of these devices, or arrays of these devices, can be fabricated by parallel processes on a single substrate, and photolithography can be employed to define the mechanical structures described above. Other embodiments include additional electrical isolation of the resetting mechanism, enhancement of the separation distance of the contact points of the switch in the open position, and prevention of arcing at the latch mechanism. A method of fabricating the device is provided. A method of using the aforementioned device is also provided.
(FR)L'invention concerne un dispositif interrupteur électrique MEMS (système microélectromécanique) destiné à des applications de protection de circuit. Ce dispositif comprend un mécanisme de verrouillage mécanique par l'intermédiaire duquel l'interrupteur est maintenu dans la position fermée, et un mécanisme par l'intermédiaire duquel ledit verrou est relâché lorsque le courant de charge qui traverse le dispositif atteint ou dépasse une grandeur souhaitée. En outre, le dispositif comprend un mécanisme par l'intermédiaire duquel l'interrupteur peut être replacé dans sa position fermée par application d'une tension de commande électrique sur certaines bornes du dispositif. Un certain nombre de ces dispositifs, ou réseaux de ces dispositifs, peuvent être fabriqués au cours de procédures parallèles sur un seul substrat; la photolithographie pouvant être utilisée pour définir les structures mécaniques susmentionnées. D'autres modes de réalisation permettent d'obtenir une isolation électrique supplémentaire de ce mécanisme de réinitialisation, une augmentation de la distance de séparation des points de contact de l'interrupteur dans la position ouverte; ils permettent également d'empêcher la formation d'arc au niveau du mécanisme de verrouillage. Cette invention concerne également un procédé permettant de fabriquer le dispositif susmentionné, ainsi qu'un procédé permettant d'utiliser ce dispositif.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NI, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)