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1. (WO2003087426) INSTALLATION DE REVETEMENT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2003/087426    N° de la demande internationale :    PCT/DE2003/001216
Date de publication : 23.10.2003 Date de dépôt international : 11.04.2003
CIB :
C23C 14/00 (2006.01), C23C 14/35 (2006.01)
Déposants : APPLIED FILMS GMBH & CO. KG [DE/DE]; Siemensstrasse 100, 63755 Alzenau (DE) (AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BE, BF, BG, BJ, BR, BY, BZ, CA, CF, CG, CH, CI, CM, CN, CO, CR, CU, CY, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, FR, GA, GB, GD, GE, GH, GM, GN, GQ, GR, GW, HR, HU, ID, IE, IL, IN, IS, IT, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MC, MD, MG, MK, ML, MN, MR, MW, MX, MZ, NE, NI, NL, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SI, SK, SL, SN, SZ, TD, TG, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW only).
GEISLER, Michael [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
KASTNER, Albert [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
SZYSZKA, Bernd [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
PFLUG, Andreas [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
MALKOMES, Niels [DE/DE]; (DE) (US Seulement)
Inventeurs : GEISLER, Michael; (DE).
KASTNER, Albert; (DE).
SZYSZKA, Bernd; (DE).
PFLUG, Andreas; (DE).
MALKOMES, Niels; (DE)
Mandataire : SCHLAGWEIN, Udo; Frankfurter Strasse 34, 61231 Bad Nauheim (DE)
Données relatives à la priorité :
102 16 671.4 15.04.2002 DE
Titre (DE) BESCHICHTUNGSANLAGE
(EN) COATING INSTALLATION
(FR) INSTALLATION DE REVETEMENT
Abrégé : front page image
(DE)Bei einer Beschichtungsanlage ist ein Rezipient (1) durch eine Blende (2) in einen Kathodenraum (3) und einen Substratraum (4) unterteilt. Sowohl der Kathodenraum (3) als auch der Substratraum (4) weisen eine unmittelbare Absaugung (10, 16) und jeweils eine eigene Gaszuführung (8, 14) auf. Die Gaszuführung (8) in den Kathodenraum (3) ist mit einer Prozessgasquelle (9) und die Gaszuführung (14) für den Substratraum (4) mit einer Reaktivgasquelle (15) verbunden.
(EN)The invention relates to a coating installation comprising a recipient (1) which is divided into a cathode side (3) and a substrate side (4) by means of a screen (2). The cathode side (3) and the substrate side (4) respectively have a direct extraction outlet (10, 16) and a gas admission (8, 14). The gas admission (8) on the cathode side (3) is connected to a process gas source (9) and the gas admission (14) for the substrate side (4) is connected to a reactive gas source (15).
(FR)L'invention concerne une installation de revêtement dans laquelle un récipient (1) est subdivisé par un écran (2) en une chambre cathodique (3) et une chambre de substrat (4). La chambre cathodique (3) et la chambre de substrat (4) présentent toutes deux une aspiration directe (10, 16) ainsi que leur propre amenée de gaz (8, 14). L'amenée de gaz (8) dans la chambre cathodique (3) est reliée à une source de gaz de processus (9) et l'amenée de gaz (14) pour la chambre de substrat (4) est reliée à une source de gaz réactif (15).
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NI, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)