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1. (WO2003086032) SOURCE DE PLASMA ECR ET DISPOSITIF A PLASMA ECR
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2003/086032    N° de la demande internationale :    PCT/JP2003/004481
Date de publication : 16.10.2003 Date de dépôt international : 09.04.2003
CIB :
H01J 37/32 (2006.01), H05H 1/18 (2006.01), H05H 1/46 (2006.01)
Déposants : NTT AFTY CORPORATION [JP/JP]; 4-16-30, Shimorenjaku, Mitaka-shi, Tokyo 181-0013 (JP) (Tous Sauf US).
MATSUO, Seitaro [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
NOZAKI, Toshiyuki [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
TANAKA, Fumio [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : MATSUO, Seitaro; (JP).
NOZAKI, Toshiyuki; (JP).
TANAKA, Fumio; (JP)
Mandataire : TANI, Yoshikazu; 6-20, Akasaka 2-chome, Minato-ku, Tokyo 107-0052 (JP)
Données relatives à la priorité :
2002-106710 09.04.2002 JP
Titre (EN) ECR PLASMA SOURCE AND ECR PLASMA DEVICE
(FR) SOURCE DE PLASMA ECR ET DISPOSITIF A PLASMA ECR
Abrégé : front page image
(EN)An ECR plasma source comprising a plasma generating chamber (10) having an almost rectangular section in a plane vertical to a plasma stream, magnetic coils (20, 21) wound in an almost rectangular form in a plane vertical to a plasma stream, and a waveguide (30) of a direct introduction type or multipoint connection introduction type terminating at an end or a microwave cavity resonator, wherein microwave is transmitted into the plasma generating chamber (10) from a plurality of openings (34) provided in the waveguide (30) or in the side surface corresponding to a microwave in-phase unit in the microwave cavity resonator. An ECR plasma device provided with the above ECR plasma source and a sample moving mechanism for moving a large sample.
(FR)L'invention concerne une source de plasma ECR comprenant une chambre de production de plasma (10) présentant une section pratiquement rectangulaire dans un plan vertical par rapport à l'écoulement du plasma, des bobines magnétiques (20, 21) enroulées dans une forme pratiquement rectangulaire dans un plan vertical par rapport à l'écoulement du plasma, et un guide d'ondes (30) de type à introduction directe ou à introduction par connexion multipoint s'achevant à une extrémité, ou un résonateur à cavité hyperfréquence, l'hyperfréquence étant transmise dans la chambre de production de plasma (10) depuis une multitude d'ouvertures (34) ménagées dans le guide d'ondes (30) ou dans la surface latérale correspondant à une unité en phase hyperfréquence dans le résonateur à cavité hyperfréquence. La présente invention concerne également un dispositif à plasma ECR doté d'une telle source de plasma ECR et un mécanisme de déplacement d'échantillon permettant de déplacer de grand échantillon.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NI, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)