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1. (WO2003085721) PROCESSUS A TEMPERATURE VARIABLE POUR SUPPORT ELECTROSTATIQUE REGLABLE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2003/085721    N° de la demande internationale :    PCT/US2003/009153
Date de publication : 16.10.2003 Date de dépôt international : 25.03.2003
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    30.10.2003    
CIB :
H01L 21/00 (2006.01), H01L 21/311 (2006.01), H01L 21/683 (2006.01), H01L 21/768 (2006.01)
Déposants : LAM RESEARCH CORPORATION [US/US]; 4650 Cushing Parkway CA-1, MS CA-913, Fremont, CA 94538 (US) (Tous Sauf US).
KAMP, Tom, A. [--/US]; (US) (US Seulement).
GOTTSCHO, Richard [--/US]; (US) (US Seulement).
LEE, Steve [--/US]; (US) (US Seulement).
LEE, Chris [--/US]; (US) (US Seulement).
YAMAGUCHI, Yoko [--/US]; (US) (US Seulement).
VAHEDI, Vahid [--/US]; (US) (US Seulement).
EPPLER, Aaron [--/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : KAMP, Tom, A.; (US).
GOTTSCHO, Richard; (US).
LEE, Steve; (US).
LEE, Chris; (US).
YAMAGUCHI, Yoko; (US).
VAHEDI, Vahid; (US).
EPPLER, Aaron; (US)
Mandataire : RITCHIE, David, B.; Thelen Reid & Priest LLP, P.O. Box 640640, San Jose, CA 95164-0640 (US)
Données relatives à la priorité :
60/369,773 02.04.2002 US
10/235,453 04.09.2002 US
Titre (EN) VARIABLE TEMPERATURE PROCESSES FOR TUNABLE ELECTROSTATIC CHUCK
(FR) PROCESSUS A TEMPERATURE VARIABLE POUR SUPPORT ELECTROSTATIQUE REGLABLE
Abrégé : front page image
(EN)An etch processor for etching a wafer includes a chuck for holding the wafer and a temperature sensor reporting a temperature of the wafer. The chuck includes a heater controlled by a temperature control system. The temperature sensor is operatively coupled to the temperature control system to maintain the temperature of the chuck at a selectable setpoint temperature. A first setpoint temperature and a second setpoint temperature are selected. The wafer is placed on the chuck and set to the first setpoint temperature. The wafer is then processed for a first period of time at the first setpoint temperature and for a second period of time at the second setpoint temperature.
(FR)L'invention concerne une unité de gravure permettant de graver une plaquette. Cette unité comprend un support permettant de maintenir la plaquette, et une sonde de température indiquant la température de la plaquette. Le support comprend un dispositif de chauffage réglé par un système de commande de température. La sonde de température est couplée opérationnellement au système de commande de température afin de maintenir la température du support à une valeur de consigne réglable. Une première température de point de consigne et une seconde température de point de consigne sont sélectionnées. La plaquette est placée sur le support et chauffée à la première température de point de consigne, puis elle est traitée pendant un premier intervalle de temps à la première température de point de consigne et pendant un second intervalle de temps à la seconde température de point de consigne.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)