WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2003085707) SOURCE DE LUMIERE D'UV EXTREMES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2003/085707    N° de la demande internationale :    PCT/JP2003/004315
Date de publication : 16.10.2003 Date de dépôt international : 04.04.2003
CIB :
G03F 7/20 (2006.01), H05G 2/00 (2006.01)
Déposants : GIGAPHOTON INC. [JP/JP]; Asahi Tokai Bldg. 6-1, Ohtemachi 2-chome Chiyoda-ku, Tokyo 100-0004 (JP) (Tous Sauf US).
MIZOGUCHI, Hakaru [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
ENDO, Akira [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
TANAKA, Hirokazu [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : MIZOGUCHI, Hakaru; (JP).
ENDO, Akira; (JP).
TANAKA, Hirokazu; (JP)
Mandataire : KIMURA, Takahisa; 6F, Sendai Building, 8-11, Minato 1-chome Chuo-ku, Tokyo 104-0043 (JP)
Données relatives à la priorité :
2002-103975 05.04.2002 JP
Titre (EN) EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT SOURCE
(FR) SOURCE DE LUMIERE D'UV EXTREMES
Abrégé : front page image
(EN)An extreme ultraviolet light source for producing extreme ultra violet light of high output power by increasing the working distance. The extreme ultraviolet light source produces extreme ultraviolet (EUV) light having a wavelength of several nanometers to several tens of nanometers by irradiating a target (22) with a laser beam from a driving laser apparatus (25) and producing a plasma. The extreme ultraviolet light source comprises a target supply device having charging means (23) for charging the target (22) and accelerating means (24) for accelerating the charged target by means of an electromagnetic field. The target supply device supplies, as an ionized molecule, an ionized atom, a mass of atoms, or an ionized cluster, the target (22) made of a rare gas element such as xenon (Xe), or a metal, e, g., lithium (Li), tin (Sn), or tin oxide (SnO2).
(FR)L'invention porte sur une source de lumière d'UV extrêmes permettant de produire une lumière d'UV extrêmes de puissance de sortie élevée par augmentation de la distance de travail. Cette source de lumière d'UV extrêmes produit une lumière d'UV extrêmes (EU) présentant une longueur d'onde de plusieurs nanomètres jusqu'à plusieurs dizaines de nanomètres par irradiation d'une cible (22) au moyen d'un rayon laser depuis un appareil laser de commande (25) et par production d'un plasma. Cette source de lumière d'UV extrêmes comprend un dispositif d'alimentation cible doté de moyens de chargement (23) permettant de charger la cible (22) et de moyens d'accélération (24) permettant d'accélérer la cible chargée au moyen d'un champ électromagnétique. Le dispositif d'alimentation de cible fournit, sous la forme d'une molécule ionisée, d'un atome ionisé, d'une masse d'atomes, ou d'un bloc ionisé, la cible (22) faite d'un élément du groupe des gaz rares tel que le xénon (Xe), ou un métal, par exemple, le lithium (Li), l'étain (Sn), ou l'oxyde d'étain (SnO2).
États désignés : DE, US.
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)