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1. (WO2003085160) DISPOSITIF ET PROCEDE DE FORMATION DE COUCHE MINCE ET PROCEDE DE FABRICATION DE COMPOSANT ELECTRONIQUE AU MOYEN DE CE DISPOSITIF
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2003/085160    N° de la demande internationale :    PCT/JP2003/004171
Date de publication : 16.10.2003 Date de dépôt international : 01.04.2003
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    30.10.2003    
CIB :
C23C 14/04 (2006.01), C23C 14/50 (2006.01), C23C 14/56 (2006.01), G11B 7/26 (2006.01), H01L 21/00 (2006.01), H01L 21/677 (2006.01)
Déposants : TDK CORPORATION [JP/JP]; 1-13-1, Nihonbashi, Chuo-ku, Tokyo 103-8272 (JP)
Inventeurs : KOSHIKAWA, Masato; (JP).
MATSUI, Satoshi; (JP)
Mandataire : OKABE, Masao; No. 602, Fuji Bldg., 2-3, Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 100-0005 (JP)
Données relatives à la priorité :
2002-106423 09.04.2002 JP
Titre (EN) DEVICE AND METHOD FOR FORMING THIN-FILM, AND METHOD OF MANUFACTURING ELECTRONIC COMPONENT USING THE DEVICE
(FR) DISPOSITIF ET PROCEDE DE FORMATION DE COUCHE MINCE ET PROCEDE DE FABRICATION DE COMPOSANT ELECTRONIQUE AU MOYEN DE CE DISPOSITIF
Abrégé : front page image
(EN)A thin-film forming device, wherein vacuum tanks having a plurality of film forming chambers are installed on different planes and allowed to communicate with each other through vacuumed exchange chambers, and a substrate is exchanged between the vacuum chambers by a substrate exchange mechanisms installed in the exchange chambers, whereby the number of chambers in the thin-film forming device can be easily increased, an area for installation can be reduced, and a production efficiency can be increased.
(FR)L'invention concerne un dispositif de formation de couche mince dans lequel des réservoirs à vide comportant plusieurs enceintes de formation de couche mince sont installés sur différents plans et peuvent communiquer les uns avec les autres via des enceintes d'échange sous vide, et dans lequel un substrat est échangé entre les enceintes sous vide grâce à des mécanismes d'échange de substrat installés dans les enceintes d'échange, le nombre d'enceintes dans le dispositif de formation de couche mince pouvant être facilement augmenté, la zone nécessaire à l'installation pouvant être réduite et l'efficacité augmentée.
États désignés : CN, KR.
Office européen des brevets (OEB) (CH, DE).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)