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1. (WO2003085005) COMPOSITION PHOTOPOLYMERISABLE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2003/085005    N° de la demande internationale :    PCT/JP2003/004254
Date de publication : 16.10.2003 Date de dépôt international : 03.04.2003
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    05.11.2003    
CIB :
C07D 261/12 (2006.01), C07D 403/08 (2006.01), C07D 413/06 (2006.01), C07D 413/08 (2006.01), C07D 417/08 (2006.01), C08F 2/50 (2006.01), G03F 7/029 (2006.01)
Déposants : KYOWA HAKKO CHEMICAL CO., LTD. [JP/JP]; 2-15, Nihonbashi Muromachi 3-chome, Chuo-ku, Tokyo 103-0022 (JP) (Tous Sauf US).
YAMAOKA, Tsuguo [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SHIMIZU, Ikuo [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
TOYODA, Hiroshi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KINUGASA, Motoharu [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
IKUTA, Masanori [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KATAGI, Kyoko [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : YAMAOKA, Tsuguo; (JP).
SHIMIZU, Ikuo; (JP).
TOYODA, Hiroshi; (JP).
KINUGASA, Motoharu; (JP).
IKUTA, Masanori; (JP).
KATAGI, Kyoko; (JP)
Mandataire : KAWAMIYA, Osamu; AOYAMA & PARTNERS, IMP Building, 3-7, Shiromi 1-chome, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 540-0001 (JP)
Données relatives à la priorité :
2002-104616 08.04.2002 JP
Titre (EN) PHOTOPOLYMERIZABLE COMPOSITION
(FR) COMPOSITION PHOTOPOLYMERISABLE
Abrégé : front page image
(EN)A photopolymerizable composition comprising a metal complex of a squarylium compound, a radical generating agent and a compound containing at least one ethylenically unsaturated double bond. The photopolymerizable composition exhibits enhanced light sensitivity, and can be used for a PS plate (Presensitized Plate), a recording material for a visible laser, such as a dry film resist, a digital proof and a hologram, a panchromatic sensitizing material (for example, a sensitizing material for a hologram and a sensitizing material for full color display comprising a photopolymerizable composition included in a microcapsule), a coating material, an adhesive, and the like.
(FR)L'invention concerne une composition photopolymérisable comprenant un complexe métallique d'un composé squarylium, un agent de production de radicaux et un composé contenant au moins une double liaison à insaturation éthylénique. La composition photopolymérisable possède une sensibilité améliorée à la lumière et peut être utilisée, entre autres, pour une plaque PS (présensibilisée), un matériau d'enregistrement par laser visible, tel qu'une photorésine sèche sous forme de film, une épreuve numérique et un hologramme, un matériau panchromatique sensibilisateur (par exemple, un matériau sensibilisateur pour hologramme et un matériau sensibilisateur pour un affichage quadrichrome comprenant une composition photopolymérisable enfermée dans une microcapsule), un matériau de revêtement et un adhésif.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NI, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)