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1. (WO2003084768) PROCEDE D'IMPRESSION EN RELIEF A L'ECHELLE MICROSCOPIQUE/NANOSCOPIQUE ET APPLICATIONS UTILES DE CE PROCEDE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2003/084768    N° de la demande internationale :    PCT/US2003/009899
Date de publication : 16.10.2003 Date de dépôt international : 01.04.2003
CIB :
A61K 9/00 (2006.01), A61K 9/51 (2006.01), B01D 67/00 (2006.01), B01D 69/02 (2006.01), B29C 33/38 (2006.01), B29C 45/02 (2006.01)
Déposants : THE OHIO STATE UNIVERSITY [US/US]; 1960 Kenny Road Columbus, OH 43210-1063 (US)
Inventeurs : LEE, James, L.; (US).
LAI, Siyi; (US)
Mandataire : GILCREST, Roger, A.; Standley & Gilcrest LLP Suite 210 495 Metro Place South Dublin, OH 43017 (US)
Données relatives à la priorité :
10/113,233 01.04.2002 US
Titre (EN) MICRO/NANO-EMBOSSING PROCESS AND USEFUL APPLICATIONS THEREOF
(FR) PROCEDE D'IMPRESSION EN RELIEF A L'ECHELLE MICROSCOPIQUE/NANOSCOPIQUE ET APPLICATIONS UTILES DE CE PROCEDE
Abrégé : front page image
(EN)The present invention relates to a method of producing micro and nano-porous polymeric articles with well-defined pore structures.
(FR)La présente invention concerne un procédé de production d'articles polymères microporeux et nanoporeux ayant des structures de pores bien définies.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)