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1. (WO2003083580) SYSTEME DE TRAITEMENT OPTIQUE DE SURFACES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2003/083580    N° de la demande internationale :    PCT/FR2003/000931
Date de publication : 09.10.2003 Date de dépôt international : 25.03.2003
CIB :
G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : JOFFRE, Pascal [FR/FR]; (FR)
Inventeurs : JOFFRE, Pascal; (FR)
Données relatives à la priorité :
02/03952 28.03.2002 FR
Titre (EN) SYSTEM FOR OPTICALLY TREATING SURFACES
(FR) SYSTEME DE TRAITEMENT OPTIQUE DE SURFACES
Abrégé : front page image
(EN)The invention relates to a system for optically treating surfaces, said system comprising a) a source (1,2) emitting a spatially modulated light beam from an emission side thereof, b) a periodical arrangement of light concentrating elements (3) arranged between the emission side of the source and a plane in which a surface of an object (4) to be treated must be arranged, c) the largest dimension of the emission side and/or the matrix of light concentrating elements being over 10 times larger than the distance (d2) separating said plane from the periodical arrangement of light concentrating elements and/or the emission side, and d) a support plate (5) for receiving the object (4) of which one side is to be treated in such a way that the side to be treated is parallel to the emission side of the source, the support plate enabling the object to be displaced in two first directions which are perpendicular in relation to each other and are located in the plane of the surface to be treated. The displacement step according to said two first directions is essentially equal to the distribution step of the periodical arrangement of light concentrating elements multiplied by the reduction ratio of the light concentrating elements. Preferably, the invention can be applied in the fields of micro-electronics, reprography, visualisation, and more generally, microtechnologies.
(FR)L'invention concerne un système de traitement optique de surfaces comprenant a) une source (1,2) émettant, par une face émissive, un faisceau lumineux modulé spatialement ; b) un arrangement périodique d'éléments de concentration (3) de la lumière disposé entre la face émissive de la source et un plan selon lequel doit être disposée une surface d'un objet à traiter (4) ; c) la plus grande dimension de la face émissive et/ou de la matrice d'éléments de concentration est dans un rapport supérieur à 10 avec la distance (d2) séparant ledit plan d'une part de l'arrangement périodique d'éléments de concentration et /ou ladite face émissive d'autre part ; d) une platine support (5) destinée à recevoir ledit objet (4 dont on veut traiter une face de manière que ladite face à traiter soit parallèle à la face émissive de la source, la platine support permettant de déplacer ledit objet selon deux premières directions perpendiculaires entre elles et contenues dans le plan de la surface à traiter; le pas de déplacement selon ces deux premières directions étant sensiblement égal au pas de répartition de l'arrangement périodique d'éléments de concentration multiplié par le rapport de réduction des éléments de concentration. L'invention est applicable de préférence en micro-électronique, en reprographie, en visualisation et de façon générale dans les microtechnologies.
États désignés : JP, US.
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, RO, SE, SI, SK, TR).
Langue de publication : français (FR)
Langue de dépôt : français (FR)