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1. (WO2003083577) POLYMERES RESISTANT AUX SOLVANTS ET AYANT DES CARACTERISTIQUES DE FACILITE DE CUISSON AMELIOREES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2003/083577    N° de la demande internationale :    PCT/EP2003/003559
Date de publication : 09.10.2003 Date de dépôt international : 13.03.2003
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    07.10.2003    
CIB :
C08F 222/40 (2006.01), G03F 7/023 (2006.01)
Déposants : KODAK POLYCHROME GRAPHICS GMBH [DE/DE]; An der Bahn 80, 37520 Osterode/Harz (DE)
Inventeurs : JAREK, Mathias; (DE)
Mandataire : VOSSIUS & PARTNER; Siebertstrasse 4, 81675 Munich (DE)
Données relatives à la priorité :
10/096,651 13.03.2002 US
Titre (EN) SOLVENT RESISTANT COPOLYMERS
(FR) POLYMERES RESISTANT AUX SOLVANTS ET AYANT DES CARACTERISTIQUES DE FACILITE DE CUISSON AMELIOREES
Abrégé : front page image
(EN)A radiation-sensitive composition for use in printing plates is described. The composition comprises: (a) at least one novolak; (b) at least one naphthoquinone diazide derivative; and (c) a copolymer comprising units A, B, and C:
(FR)L'invention concerne une composition sensible au rayonnement utilisé dans des plaques d'impression. La composition comprend: (a) au moins une novolaque; (b) au moins un dérivé de naphthoquinone diazide; et (c) un copolymère comprenant des unités A, B, et C:
États désignés : Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, RO, SE, SI, SK, TR).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)