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1. (WO2003083172) ELEMENT CONDUCTEUR ET PROCEDE DE PRODUCTION ASSOCIE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2003/083172    N° de la demande internationale :    PCT/JP2003/004007
Date de publication : 09.10.2003 Date de dépôt international : 28.03.2003
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    10.10.2003    
CIB :
C23C 26/00 (2006.01), C23C 30/00 (2006.01)
Déposants : CANON KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 3-30-2, Shimomaruko, Ohta-ku, Tokyo 146-8501 (JP) (Tous Sauf US).
KISU, Hiroki [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
MURAI, Keiichi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
MIYAMACHI, Naotoshi [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : KISU, Hiroki; (JP).
MURAI, Keiichi; (JP).
MIYAMACHI, Naotoshi; (JP)
Mandataire : OKABE, Masao; No. 602, Fuji Bldg., 2-3, Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 100-0005 (JP)
Données relatives à la priorité :
2002-98299 01.04.2002 JP
Titre (EN) CONDUCTIVE MEMBER AND PROCESS FOR PRODUCING THE SAME
(FR) ELEMENT CONDUCTEUR ET PROCEDE DE PRODUCTION ASSOCIE
Abrégé : front page image
(EN)A process for producing a conductive member of excellent performance, and a conductive member. A process for producing a conductive member having a conductive film superimposed on a substrate surface, comprising the steps of applying a colloid solution to a substrate having at least a porous surface at the porous surface so as to form a colloid-containing layer (i) and drying the olloid-containing layer into a conductive film (ii).
(FR)L'invention concerne un procédé de production d'un élément conducteur à haut rendement ainsi que cet élément conducteur. L'invention concerne un procédé de production d'un élément conducteur comprenant un film conducteur superposé sur une surface d'un substrat. Ce procédé consiste à appliquer une solution colloïdale sur une surface poreuse d'un substrat comprenant au moins une surface poreuse de façon à former une couche contenant un colloïde (i) et à laisser sécher cette couche de façon qu'elle se transforme en film conducteur (ii).
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NI, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)