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1. (WO2003083169) DISPOSITIF ET PROCEDE DE DEPOT DE MATIERE ORGANIQUE EN PHASE VAPEUR
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2003/083169    N° de la demande internationale :    PCT/KR2003/000605
Date de publication : 09.10.2003 Date de dépôt international : 27.03.2003
CIB :
C23C 14/12 (2006.01), C23C 16/44 (2006.01), C23C 16/448 (2006.01)
Déposants : ANS INC [KR/KR]; 451-4 Mogok-dong Pyeongtaek-si Gyeonggi-do 459-040 (KR) (Tous Sauf US).
KIM, Dong-Soo [KR/KR]; (KR) (US Seulement).
BAE, Kyung-Bin [KR/KR]; (KR) (US Seulement).
CHOI, Dong-Kwon [KR/KR]; (KR) (US Seulement)
Inventeurs : KIM, Dong-Soo; (KR).
BAE, Kyung-Bin; (KR).
CHOI, Dong-Kwon; (KR)
Mandataire : CHUNG, Yeon-Yong; #1203 Hyundai Topics Bldg. 44-3 Bangi-dong, Songpa-gu Seoul 138-050 (KR)
Données relatives à la priorité :
10-2002-0017755 01.04.2002 KR
10-2002-0061629 10.10.2002 KR
Titre (EN) APPARATUS AND METHOD FOR DEPOSITING ORGANIC MATTER OF VAPOR PHASE
(FR) DISPOSITIF ET PROCEDE DE DEPOT DE MATIERE ORGANIQUE EN PHASE VAPEUR
Abrégé : front page image
(EN)The present invention relates to a vapor organic material deposition method and a vapor organic material deposition apparatus using the same which are capable of fast growing a thin film uniformly on a wider substrate by spraying a vapor organic material in a gravity direction using a spraying unit installed in an upper side of the same and accurately and stably adjusting a thickness of a wider substrate of an organic thin film by using a diluting gas as a deposition material and continuously carrying a small size heat source to a scan head.
(FR)la présente invention concerne un procédé de dépôt de matière organique en phase vapeur et un dispositif correspondant qui permettent de créer rapidement et uniformément un film mince sur un substrat plus large. A cette fin, on vaporise un matériau organique en phase vapeur dans le sens de la gravité au moyen d'une unité de vaporisation disposée sur un côté supérieur du dispositif, puis l'on règle avec précision et de manière stable l'épaisseur d'un mince film organique sur un substrat plus large à l'aide d'un gaz diluant et d'une petite source de chaleur que l'on présente en permanence au niveau d'une tête de balayage.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NI, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)