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1. (WO2003083162) DISPOSITIF DE DEPOT SOUS VIDE ET PROCEDE DE DEPOT DE COUCHES MINCES OPTIQUES SUR DES SUBSTRATS PRESENTANT UNE COURBURE IMPORTANTE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2003/083162    N° de la demande internationale :    PCT/EP2002/005693
Date de publication : 09.10.2003 Date de dépôt international : 28.03.2002
CIB :
C23C 14/04 (2006.01), C23C 14/50 (2006.01)
Déposants : SATIS VACUUM INDUSTRIES S.P.A. [IT/IT]; Via del Campaccio, 13, I-20019 Settimo Milanese (IT) (Tous Sauf US).
ROSSI, Luigi [IT/IT]; (IT) (US Seulement)
Inventeurs : ROSSI, Luigi; (IT)
Mandataire : BOTTERO, Claudio; Porta, Checcacci & Associati S.p.A., Via Trebbia, 20, I-20135 Milano (IT)
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) VACUUM DEPOSITION APPARATUS AND METHOD FOR DEPOSITING THIN OPTICAL FILMS ON HIGH CURVATURE SUBSTRATES
(FR) DISPOSITIF DE DEPOT SOUS VIDE ET PROCEDE DE DEPOT DE COUCHES MINCES OPTIQUES SUR DES SUBSTRATS PRESENTANT UNE COURBURE IMPORTANTE
Abrégé : front page image
(EN)A vacuum deposition apparatus (101) and a method for depositing thin optical films made of a coating material on high curvature substrates (4) are described. The apparatus (101) of the invention comprises a vacuum chamber (2) in which are supported at least one evaporative device (20) for evaporating the coating material and a rotatable substrate holder (3) supported at a predetermined distance (D) from the evaporative device (20). The substrate holder (3) comprises a shaft (6) having a rotation axis (X-X) and a planetary turntable (7) including a plurality of rolls (8) for supporting said substrates (4).According to the invention, the evaporative device (20) is positioned substantially in alignment with the rotation axis (X-X) of the substrate holder (3) and the supporting rolls (8) radially extend from the shaft in an inclined manner towards the evaporative device (20) at an acute angle ($g(a)) with respect to a direction (Z-Z) substantially perpendicular to the rotation axis (X-X). Advantageously, the apparatus and the method of the invention enable to achieve an even deposition of the coating material on optical substrates having a high curvature.
(FR)L'invention concerne un dispositif de dépôt sous vide (101) et un procédé de dépôt de couches optiques minces constituées d'un matériau de revêtement, sur des substrats (4) présentant une courbure importante. Le dispositif (101) de l'invention comprend une chambre à vide (2) dans laquelle repose au moins un dispositif d'évaporation (20) servant à faire évaporer le matériau de revêtement et un support rotatif (3) pour substrat disposé à une distance (D) prédéterminée du dispositif d'évaporation (20). Le support rotatif (3) comprend un arbre (6) ayant un axe de rotation (X-X) et une plaque tournante planétaire (7) comportant une pluralité de rouleaux (8) servant à supporter lesdits substrats (4). Le dispositif d'évaporation (20) est sensiblement aligné par rapport à l'axe de rotation (X-X) du substrat rotatif (3) et les rouleaux (8) s'étendent de façon radiale à partir de l'arbre, de manière inclinée, vers le dispositif d'évaporation (20), selon un angle aigu ($g(a)) par rapport à l'axe (Z-Z) sensiblement perpendiculaire à l'axe de rotation (X-X). De préférence, le dispositif et le procédé de l'invention permettent d'obtenir un dépôt sensiblement homogène de matériau de revêtement sur des substrats optiques présentant une courbure importante.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)