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1. (WO2003081648) DISPOSITIF D'EXPOSITION, PROCEDE D'EXPOSITION, ET PROCEDE DE FABRICATION DU DISPOSITIF
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2003/081648    N° de la demande internationale :    PCT/JP2003/003539
Date de publication : 02.10.2003 Date de dépôt international : 24.03.2003
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    16.10.2003    
CIB :
G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : NIKON CORPORATION [JP/JP]; 2-3, Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 100-8331 (JP) (Tous Sauf US).
TSUJI, Toshihiko [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KIMURA, Takaaki [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
NAGAHASHI, Yoshitomo [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : TSUJI, Toshihiko; (JP).
KIMURA, Takaaki; (JP).
NAGAHASHI, Yoshitomo; (JP)
Mandataire : SHIGA, Masatake; 2-3-1, Yaesu, Chuo-Ku, Tokyo 104-8453 (JP)
Données relatives à la priorité :
2002-82044 22.03.2002 JP
Titre (EN) EXPOSURE DEVICE, EXPOSURE METHOD, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
(FR) DISPOSITIF D'EXPOSITION, PROCEDE D'EXPOSITION, ET PROCEDE DE FABRICATION DU DISPOSITIF
Abrégé : front page image
(EN)An exposure device, wherein circulating systems (C5) and (C6) for controlling a temperature varied by the driving of a linear motor are connected to a reticle stage (2) and a wafer stage (5), a controller (77) sets the temperature of refrigerant circulating through the circulating systems (C5) and (C6) by driving heaters (75) and (78), a circulating system (C1) is connected to a projection optical system (PL) and a controller (67) sets the temperature of refrigerant circulating through a circulating system (C1) by driving a heater (71), and the controllers (67) and (77) drive the heaters (71) and (75) and (78) by a feed forward control to control the temperature of the refrigerant circulating through the circulating systems.
(FR)L'invention concerne un dispositif d'exposition dans lequel des systèmes de circulation (C5 et C6) servant à réguler une température variée par l'excitation d'un moteur linéaire sont connectés à un étage de réticule (2) et à un étage de plaquette (5). Un contrôleur (77) règle la température d'un réfrigérant circulant dans les systèmes de circulation (C5 et C6) en excitant des réchauffeurs (75 et 78). Un système de circulation (C1) est connecté à un système optique de projection (PL) et un contrôleur (67) règle la température d'un réfrigérant circulant dans un système de circulation (C1) en excitant un réchauffeur (71). Les contrôleurs (67, 77) excitent les réchauffeurs (71, 75 et 78) par régulation par l'amont afin de régler la température du réfrigérant circulant dans les systèmes de circulation.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NI, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)