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1. (WO2003081634) MAGNETRON TUBULAIRE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2003/081634    N° de la demande internationale :    PCT/DE2003/000962
Date de publication : 02.10.2003 Date de dépôt international : 24.03.2003
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    22.10.2003    
CIB :
H01J 37/34 (2006.01)
Déposants : VON ARDENNE ANLAGENTECHNIK GMBH [DE/DE]; Plattleite 19/29, 01324 Dresden (DE) (Tous Sauf US).
ERBKAMM, Wolfgang [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
HECHT, Hans-Christian [DE/DE]; (DE) (US Seulement)
Inventeurs : ERBKAMM, Wolfgang; (DE).
HECHT, Hans-Christian; (DE)
Mandataire : ADLER, Peter; Lippert, Stachow, Schmidt & Partner, Krenkelstrasse 3, 01309 Dresden (DE)
Données relatives à la priorité :
102 13 043.4 22.03.2002 DE
Titre (DE) ROHRMAGNETRON
(EN) TUBE MAGNETRON
(FR) MAGNETRON TUBULAIRE
Abrégé : front page image
(DE)Der Erfindung, die Rohrmagnetron einer Vakuumbeschichtungsanlage betrifft, das mit einer hohlen, drehbar gelagerten Rohrtargetanordnung, und mit einem Magnetsystem versehen ist, das im Querschnitt zwei Magnetfeldmaxima aufweist und das in der axialen Längserstreckung der Rohrtargetanordnung und in deren Inneren angeordnet ist, wobei das Magnetfeld die Rohrtargetanordnung durchdringt und die Rohrtargetanordnung längserstreckte Targetplatten aufweist, die auf einem Targetträger befestigt sind, liegt der Aufgabe zugrunde, insbesondere bei der Verwendung von Targetplatten aus Keramiken z.B. aus ITO, Zinkoxid, Silizium und aus anderen keramischen, keramikähnlichen und/oder hochschmelzenden Material, eine verbesserte Prozessgleichmäßigkeit als wesentliche Voraussetzung für eine hohe Schichtqualität auf dem Substrat zu erzielen. Dies wird dadurch gelöst, dass die Targetplatten im Querschnitt ein Polygon bildend aneinander grenzend angeordnet sind.
(EN)The invention relates to a tube magnetron in a vacuum coating plant, provided with a hollow rotating tube target arrangement and a magnet system, comprising two magnetic field maxima in cross-section arranged in the axial longitudinal direction of the tube target arrangement and therein. The magnetic field passes through the tube target arrangement and the tube target arrangement comprises target plates running longitudinally which are fixed to a target support. The aim of the invention is to achieve an improved process uniformity as an essential condition for a high layer quality on the substrate, in particular on the use of target plates made from ceramics for example, ITO, zinc oxide, silicon and other ceramic, ceramic-like and/or high-melting materials. Said aim is achieved whereby the target plates are arranged adjacent to each other to form a polygon in cross-section.
(FR)Magnétron tubulaire d'une installation d'application de revêtements sous vide, doté d'un dispositif cible tubulaire creux rotatif et d'un système d'aimants qui possède transversalement deux maxima de champ magnétique et qui est placé dans la direction longitudinale axiale du dispositif cible tubulaire et à l'intérieur dudit dispositif. Le champ magnétique traverse le dispositif cible tubulaire et le dispositif cible tubulaire comporte des plaques cibles à extension longitudinale qui sont fixées sur un support de cibles. L'objet de la présente invention est d'obtenir une meilleure uniformité de processus en tant que condition essentielle pour une haute qualité des couches sur le substrat, en particulier en cas d'utilisation de plaques cibles en céramique, par ex. à base d'ITO, d'oxyde de zinc ou de silicium, ou en autres matières céramiques, de type céramique ou réfractaires. A cet effet, les plaques cibles sont placées adjacentes les unes par rapport aux autres de manière à former un polygone en section transversale.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NI, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)