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1. (WO2003081344) COMPOSITION DE PHOTOPOLYMERE DESTINEE A UN MATERIAU D'ENREGISTREMENT HOLOGRAPHIQUE, SUPPORT D'ENREGISTREMENT HOLOGRAPHIQUE ET PROCESSUS DE PRODUCTION DE CELUI-CI
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2003/081344    N° de la demande internationale :    PCT/JP2003/003576
Date de publication : 02.10.2003 Date de dépôt international : 25.03.2003
CIB :
G03F 7/00 (2006.01)
Déposants : DAISO CO., LTD. [JP/JP]; 10-8, Edobori 1-chome, Nishi-ku Osaka-shi, Osaka 550-0002 (JP) (Tous Sauf US).
IWASA, Naruhito [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SAIKA, Tetsuyuki [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
MATOBA, Yasuo [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
AOKI, Kouji [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
MATSUO, Takashi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
YOKOYAMA, Kazunori [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : IWASA, Naruhito; (JP).
SAIKA, Tetsuyuki; (JP).
MATOBA, Yasuo; (JP).
AOKI, Kouji; (JP).
MATSUO, Takashi; (JP).
YOKOYAMA, Kazunori; (JP)
Mandataire : HIBI, Norihiko; c/o Kishimoto & CO. 3rd Floor, Inaba Building, 13-18, Nishishinsaibashi 1-chome, Chuo-ku Osaka-shi, Osaka 542-0086 (JP)
Données relatives à la priorité :
2002-89128 27.03.2002 JP
Titre (EN) PHOTOPOLYMER COMPOSITION FOR HOLOGRAPHIC RECORDING MATERIAL, HOLOGRAPHIC RECORDING MEDIUM, AND PROCESS FOR PRODUCING THE SAME
(FR) COMPOSITION DE PHOTOPOLYMERE DESTINEE A UN MATERIAU D'ENREGISTREMENT HOLOGRAPHIQUE, SUPPORT D'ENREGISTREMENT HOLOGRAPHIQUE ET PROCESSUS DE PRODUCTION DE CELUI-CI
Abrégé : front page image
(EN)A composition for holographic recording materials which comprises a binder polymer (A) soluble in organic solvents, a polymerizable compound (B) having an ethylenically unsaturated double bond, a photopolymerization initiator (C), and a photosensitizer dye (D). It is excellent in sensitivity, transparency, and diffraction efficiency, which are properties required for holography. The photopolymer composition for holography, which is for use in a volume-phase holographic recording material in which the intensity distribution concerning lightness/darkness of a light interference pattern is to be recorded based on changes in refractive index, comprises a binder polymer (A) soluble in organic solvents, a polymerizable compound (B) having an ethylenically unsaturated double bond, a photopolymerization initiator (C), a photosensitizer dye (D), and a supersensitizer (E).
(FR)La présente invention concerne une composition destinée à des matériaux d'enregistrement holographique qui comprend un polymère liant (A) soluble dans des solvants organiques, un composé (B) polymérisable possédant une double liaison éthyléniquement insaturée, un initiateur (C) de photopolymérisation et un colorant (D) photosensibilisant. Ce matériau possède une excellente sensibilité, une excellente transparence et une excellente efficacité de diffraction, ces propriétés étant requises pour l'holographie. Cette composition de photopolymère pour holographie, qui est destinée à être utilisée dans un matériau d'enregistrement holographique en volume dans lequel la distribution de l'intensité concernant l'ombre et la lumière d'une configuration d'interférence lumineuse doit être enregistrée à partir des modifications d'indice de réfraction, comprend un polymère liant (A) soluble dans des solvants organiques, une double liaison, un initiateur (C) de polymérisation, un colorant photosensibilisant (d) et un supersensibilisant (E).
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NI, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)