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1. (WO2003081195) APPAREIL DE MESURE DE LA PRESSION COMPORTANT UN DISPOSITIF A ONDE ACOUSTIQUE DE SURFACE (SAW)
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2003/081195    N° de la demande internationale :    PCT/GB2003/001181
Date de publication : 02.10.2003 Date de dépôt international : 17.03.2003
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    13.10.2003    
CIB :
G01L 1/16 (2006.01), G01L 9/00 (2006.01), G01L 19/00 (2006.01)
Déposants : TRANSENSE TECHNOLOGIES PLC [GB/GB]; 66 Heyford Park, Upper Heyford, Bicester, Oxford OX25 5HD (GB) (Tous Sauf US).
KALININ, Victor, Alexandrovich [RU/GB]; (GB) (US Seulement).
LOHR, Raymond, David [GB/GB]; (GB) (US Seulement).
LEE, Mark [GB/GB]; (GB) (US Seulement).
LEIGH, Arthur, John [GB/GB]; (GB) (US Seulement)
Inventeurs : KALININ, Victor, Alexandrovich; (GB).
LOHR, Raymond, David; (GB).
LEE, Mark; (GB).
LEIGH, Arthur, John; (GB)
Mandataire : HEDGES, Martin, Nicholas; A.A. Thornton & Co., 235 High Holborn, London WC1V 7LE (GB)
Données relatives à la priorité :
0206705.6 21.03.2002 GB
0302311.6 31.01.2003 GB
0305461.6 10.03.2003 GB
Titre (EN) PRESSURE MONITOR INCORPORATING SAW DEVICE
(FR) APPAREIL DE MESURE DE LA PRESSION COMPORTANT UN DISPOSITIF A ONDE ACOUSTIQUE DE SURFACE (SAW)
Abrégé : front page image
(EN)A pressure monitor has a base with a rigid frame, and a lid secured to the base to define with the base a substantially fluid tight chamber. At least part of the lid is flexible and forms a diaphragm which will deflect in response to changes in the fluid pressure surrounding the monitor, a projection being provided on the diaphragm which transmits movement of the diaphragm to a distortable substrate located within the chamber. A first SAW device is mounted on the distortable substrate, and at least a second and a third SAW device are mounted within the chamber, the second SAW device being carried on a reference substrate section and having its direction of propagation inclined at an angle to the direction of propagation of at least one of said first and third SAW devices. In this way, movement of the diaphragm induced by a change in pressure in the zone surrounding the monitor results in distortion of the distortable substrate, which is measurable by the SAW device mounted thereon, without distorting said reference substrate section.
(FR)L'invention concerne un appareil de mesure de la pression comprenant une base avec une structure rigide et un couvercle fixé sur la base de manière à définir avec la base une chambre sensiblement étanche. Au moins une partie du couvercle est flexible et forme une membrane qui va fléchir en réponse à des changements de pression dans le voisinage de l'appareil de mesure, la membrane étant pourvue d'un élément saillant qui transmet les mouvements de la membrane à un substrat flexible situé dans la chambre. Un premier dispositif SAW est monté sur le substrat flexible et au moins un deuxième et un troisième dispositif SAW sont montés dans la chambre, le deuxième dispositif SAW reposant sur une section de substrat de référence et ayant un sens de propagation incliné d'un angle donné par rapport au sens de propagation du premier et/ou du troisième dispositif SAW. Ainsi, les mouvements de la membrane induits par les changements de pression dans le voisinage de l'appareil de mesure induisent un fléchissement du substrat flexible qui peut être mesuré par le dispositif SAW monté sur le substrat flexible sans induire un fléchissement de la section du substrat de référence.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SK, SL, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)