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1. (WO2003081171) DISPOSITIF ET PROCEDE DE MICROLITHOGRAPHIE AFM SANS CACHE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2003/081171    N° de la demande internationale :    PCT/EP2003/002680
Date de publication : 02.10.2003 Date de dépôt international : 14.03.2003
CIB :
H01J 37/317 (2006.01), G11B 9/00 (2006.01)
Déposants : LEICA MICROSYSTEMS LITHOGRAPHY GMBH [DE/DE]; Goeschwitzer Strasse 25 07745 Jena (DE) (Tous Sauf US).
UNIVERSITÄT KASSEL [DE/DE]; Moenchebergstrasse 19 34109 Kassel (DE) (Tous Sauf US).
RANGELOW, Ivo [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
IVANOV, Tzwetan [BG/DE]; (DE) (US Seulement).
HUDEK, Peter [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
FORTAGNE, Olaf [DE/DE]; (DE) (US Seulement)
Inventeurs : RANGELOW, Ivo; (DE).
IVANOV, Tzwetan; (DE).
HUDEK, Peter; (DE).
FORTAGNE, Olaf; (DE)
Mandataire : REICHERT, Werner, F.; Franz-Groedel-Str. 1 61231 Bad Nauheim (DE)
Données relatives à la priorité :
102 12 736.0 21.03.2002 DE
103 03 040.9 26.01.2003 DE
Titre (DE) VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUR MASKENLOSEN AFM MIKROLITHOGRAPHIE
(EN) DEVICE AND METHOD FOR MASKLESS AFM MICROLITHOGRAPHY
(FR) DISPOSITIF ET PROCEDE DE MICROLITHOGRAPHIE AFM SANS CACHE
Abrégé : front page image
(DE)Es ist eine Vorrichtung und ein Verfahren zur maskenlosen Mikrolithographie offenbart. Es sind mehrere mikrostrukturierte Ausleger (2) in einem Array (26) angeordnet und in jedem Ausleger (2) des Arrays (26) ist ein Aktuator integriert. Eine Spannungsversorgungs- Und Kontrolleinheit (24) ist vorgesehen, die durch eine geeignete Spannung den Abstand des Auslegers (6) bezüglich einer zu strukturierenden Oberfläche (4) anpasst und jede Nadelspitze (6) ist mit dieser Spannungsversorgungs- und Kontrolleinheit (24) verbunden. Zur Durchführung der Verfahrens werden mindestens ein Array (26) mit Auslegern (6), von denen jeder eine Nadelspitze (6) trägt mit einer zu strukturierenden Oberfläche (4) derart zusammengebracht, dass die Nadelspitzen (6) nahe der zu strukturierenden Oberfläche (4) angeordnet sind.
(EN)The invention relates to a device and a method for maskless microlithography. Several microstructured cantilevers (2) are arranged in an array (26) and an actuator is integrated in each of the cantilevers (2) of the array (26). A power supply and control unit (24) is provided, said unit adjusting the distance of the cantilevers (6) relative to a surface (4) that is to be structured by means of an appropriate voltage. Every point of the needles (6) is connected to said power supply and control unit (24). In order to implement the inventive method, an array (26) with cantilevers, each of which carries a point of a needle (6), is brought into contact with a surface (4) to be structured in such a way that the points of the needles (6) are arranged close to the surface (4) to be structured.
(FR)L'invention concerne un dispositif et un procédé de microlithographie sans masque. Plusieurs cantilevers microstructurés (2) sont agencés dans un réseau (26), et un actionneur est intégré dans chacun de ces cantilevers (2) du réseau. Il est prévu une alimentation de courant et une unité de commande (24) qui, par une tension appropriée, ajuste la distance du cantilever (6) par rapport à une surface à structurer (4), chaque pointe des aiguilles (6) étant connectée à ladite alimentation et à ladite unité de commande (24). Pour la mise en oeuvre de ce procédé, un réseau (26) présentant des cantilevers, chacun desquels portant une pointe d'aiguille (6), est amené en contact avec une surface à structurer (4), de telle façon que les pointes d'aiguilles (6) soient disposées à proximité de la surface à structurer (4).
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)