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1. (WO2003080892) COMPOSANTS A FAIBLE CONTAMINATION POUR APPAREIL DE TRAITEMENT DE SEMI-CONDUCTEURS ET PROCEDES DE FABRICATION DE CES COMPOSANTS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2003/080892    N° de la demande internationale :    PCT/US2003/004061
Date de publication : 02.10.2003 Date de dépôt international : 12.02.2003
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    21.10.2003    
CIB :
C23C 4/02 (2006.01), C23C 4/10 (2006.01), C23C 14/56 (2006.01), C23C 16/44 (2006.01), C23C 28/00 (2006.01), C23C 30/00 (2006.01)
Déposants : LAM RESEARCH CORPORATION [US/US]; 4650 Cushing Parkway, Fremont, CA 94538 (US) (Tous Sauf US).
O'DONNELL, Robert, J. [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : O'DONNELL, Robert, J.; (US)
Mandataire : PETERSON, James, W.; Burns, Doane, Swecker & Mathis, LLP, P.O. Box 1404, Alexandria, VA 22313-1404 (US)
Données relatives à la priorité :
10/101,701 21.03.2002 US
Titre (EN) LOW CONTAMINATION COMPONENTS FOR SEMICONDUCTOR PROCESSING APPARATUS AND METHODS FOR MAKING COMPONENTS
(FR) COMPOSANTS A FAIBLE CONTAMINATION POUR APPAREIL DE TRAITEMENT DE SEMI-CONDUCTEURS ET PROCEDES DE FABRICATION DE CES COMPOSANTS
Abrégé : front page image
(EN)Components of semiconductor processing apparatus are formed at least partially of erosion, corrosion and/or corrosion-erosion resistant ceramic materials. Exemplary ceramic materials can include at least one oxide, nitride, boride, carbide and/or fluoride of hafnium, strontium, lanthanum oxide and/or dysprosium. The ceramic materials can be applied as coatings over substrates to form composite components, or formed into monolithic bodies. The coatings can protect substrates from physical and/or chemical attack. The ceramic materials can be used to form plasma exposed components of semiconductor processing apparatus to provide extended service lives.
(FR)L'invention concerne des composants d'appareil de traitement de semi-conducteurs qui sont au moins partiellement à base de matériaux céramiques résistant à l'érosion, à la corrosion et/ou à la corrosion-érosion. Les matériaux céramiques exemplaires peuvent comporter au moins un oxyde, un nitrure, un borure, un carbure et/ou un fluorure d'hafnium, un strontium, un lanthane, un oxyde de lanthane et/ou un dysprosium. Les matériaux céramiques peuvent être appliqués comme revêtements sur des substrats afin de former des composants composites, ou formés dans des corps monolithiques. Les revêtements peuvent protéger les substrats contres des attaques d'ordre physique et/ou chimique. Les matériaux céramiques peuvent servir pour produire des composants exposés au plasma d'appareil de traitement de semi-conducteurs qui procurent des durées de vie utile prolongées.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)