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1. (WO2003080733) COMPOSITION DE REVETEMENT COMPRENANT DE LA SILICE COLLOIDALE ET FEUILLES BRILLANTES D'ENREGISTREMENT PAR JET D'ENCRE PREPAREES AVEC
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2003/080733    N° de la demande internationale :    PCT/US2003/008346
Date de publication : 02.10.2003 Date de dépôt international : 19.03.2003
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    17.10.2003    
CIB :
B41M 5/52 (2006.01), C08K 3/36 (2006.01), C09D 7/12 (2006.01), C09D 201/00 (2006.01)
Déposants : W.R. GRACE & CO.-CONN. [US/US]; 7500 Grace Drive, Columbia, MD 21044 (US) (Tous Sauf US).
FRUGE, Daniel, Ray [US/US]; (US) (US Seulement).
MICHOS, Demetrius [GR/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : FRUGE, Daniel, Ray; (US).
MICHOS, Demetrius; (US)
Mandataire : BUNCH, William, D.; W.R. Grace & Co.-Conn., 7500 Grace Drive, Columbia, MD 21044-4098 (US)
Données relatives à la priorité :
60/365,587 19.03.2002 US
Titre (EN) COATING COMPOSITION COMPRISING COLLOIDAL SILICA AND GLOSSY INK JET RECORDING SHEETS PREPARED THEREFROM
(FR) COMPOSITION DE REVETEMENT COMPRENANT DE LA SILICE COLLOIDALE ET FEUILLES BRILLANTES D'ENREGISTREMENT PAR JET D'ENCRE PREPAREES AVEC
Abrégé : front page image
(EN)A coating composition comprising a relatively low alkali-containing colloidal silica and glossy ink jet recording sheets prepared from such coatings is described. The coating comprises binder and colloidal silica, e.g., having an average particle size in the range of about 1 to about 300 nanometers. The low alkali colloidal silica of this invention comprises ammonia, polydispersed colloidal silica, or both. Polydispersed silicas having a particle size distribution such that the median particles size is in the range of 15 to 100 nanometers and 80% of the particles span a range of at least about 30 to about 70 nanometers are preferred. It has been discovered that coatings prepared from such colloidal silica and applied to conventional ink jet recording sheet supports have a specular gloss of at least 30 to 60°C., and excellent printability at silica solids to binder solids ratio of 1:1 or greater.
(FR)L'invention concerne une composition de revêtement comprenant une silice colloïdale de faible alcalinité et des feuilles brillantes d'enregistrements par jet d'encre préparées à partir de ce revêtement. Le revêtement comprend un liant et de la silice colloïdale, par exemple, de taille moyenne de particule comprise environ entre 1 et 300 nanomètres. La silice colloïdale à faible alcalinité de l'invention comprend de l'ammoniaque, de la silice colloïdale polydispersée, ou les deux. Les silices polydispersées possèdent une distribution de tailles de particules telle que la taille médiane soit dans un domaine compris entre 15 et 100 nanomètres, la préférence allant pour que 80 % des particules couvrent un domaine compris entre environ 30 à 70 nanomètres environ. On a montré que les revêtements préparés à partir d'une telle silice colloïdale et appliqués sur des supports d'enregistrement par jet d'encre en feuilles présentent un brillant spéculaire d'au moins 30 à 60 °C, et une excellent imprimabilité à des rapports en solides de 1:1 entre la silice et le liant.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)