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1. (WO2003080526) VERRE AU QUARTZ DE SYNTHESE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2003/080526    N° de la demande internationale :    PCT/JP2003/003759
Date de publication : 02.10.2003 Date de dépôt international : 26.03.2003
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    24.10.2003    
CIB :
C03B 19/14 (2006.01), C03C 3/06 (2006.01), C03C 23/00 (2006.01), G02B 1/02 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : JAPAN SCIENCE AND TECHNOLOGY AGENCY [JP/JP]; 1-8, Honcho 4-chome, Kawaguchi-shi, Saitama 332-0012 (JP) (Tous Sauf US).
ASAHI GLASS CO.,LTD [JP/JP]; 12-1, Yurakucho 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 100-8306 (JP) (Tous Sauf US).
HOSONO, Hideo [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KAJIHARA, Kouichi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
HIRANO, Masahiro [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
IKUTA, Yoshiaki [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KIKUKAWA, Shinya [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : HOSONO, Hideo; (JP).
KAJIHARA, Kouichi; (JP).
HIRANO, Masahiro; (JP).
IKUTA, Yoshiaki; (JP).
KIKUKAWA, Shinya; (JP)
Mandataire : NISHI, Yoshiyuki; Nishi Patent Office, Suite 211, 26-32, Nakahara 4-chome, Isogo-ku, Yokohama-shi, Kanagawa 235-0036 (JP)
Données relatives à la priorité :
2002-89667 27.03.2002 JP
Titre (EN) SYNTHETIC QUARTZ GLASS
(FR) VERRE AU QUARTZ DE SYNTHESE
Abrégé : front page image
(EN)A synthetic quartz glass for use in a unit using ultraviolet rays of 150 to 190 nm wavelength as a light source, which is excellent in resistance to ultraviolet rays of 150 to 190 nm wavelength. A synthetic quartz glass used for rays of 150 to 200 nm wavelength, characterized in that in the synthetic quartz glass, the concentration of OH groups is less than 1 ppm, the concentration of oxygen excess type defects is 1 × 1016 defects/cm3 or less, the concentration of hydrogen molecules is less than 1 × 1017 molecules/cm3, and the concentration of noncrosslinked oxygen radicals, exhibited after 3 kJ/cm2 irradiation with xenon excimer lamp light at an illumination intensity of 10 mW/cm2 or after 107 pulse irradiation with F2 laser beams at an energy density of 10 mJ/cm2/pulse, is 1 × 1016 radicals/cm3 or less.
(FR)L'invention porte: sur du verre au quartz de synthèse utilisable dans une unité utilisant comme source lumineuse de l'UV d'une longueur d'onde comprise entre 150 et 190 nm, et présentant une excellente résistance à l'UV pour ces longueurs d'onde, et sur du verre au quartz de synthèse utilisable pour des UV d'une longueur d'onde comprise entre 150 et 200 nm dans lequel: la concentration en groupes OH est inférieure à 1 ppm; la concentration en défauts du type excès d'oxygène est de 1 x 1016 défauts/cm3 ou moins; la concentration en molécules d'hydrogène est de 1 x 1017 molécules/cm3 ou moins; et la concentration en radicaux oxygène non réticulés, après irradiation à 3 kJ/cm2 par un laser excimère au xénon avec une intensité de 10 mW/cm2, ou après irradiation par 107 impulsions d'un faisceau laser F2 à une densité d'énergie de 10 mJ/cm2/impulsion, est de 1 x 1016 radicaux/cm3 ou moins.
États désignés : US.
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, RO, SE, SI, SK, TR).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)