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1. (WO2003071587) PROCEDE DE FABRICATION DE CIRCUITS A CRISTAL PHOTONIQUE A L'AIDE D'UNE COMBINAISON DE FAISCEAU D'ELECTRONS ET DE LITHOGRAPHIE PAR ULTRAVIOLETS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2003/071587    N° de la demande internationale :    PCT/US2003/004682
Date de publication : 28.08.2003 Date de dépôt international : 14.02.2003
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    12.09.2003    
CIB :
G02B 6/12 (2006.01), G02B 6/122 (2006.01), G02B 6/134 (2006.01), G02B 6/136 (2006.01), G03F 7/00 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : UNIVERSITY OF DELAWARE [US/US]; Office of the Vice Provost for Research, 210 Hullihen Hall, Newark, DE 9716-1551 (US) (Tous Sauf US).
PRATHER, Dennis, W. [US/US]; (US).
MURAKOWSKI, Janusz [PL/US]; (US)
Inventeurs : PRATHER, Dennis, W.; (US).
MURAKOWSKI, Janusz; (US)
Mandataire : OLSEN, James, M.; Connolly Bove Lodge & Hutz LLP, 1220 Market Street, P.O. Box 2207, Wilmington, DE 19899 (US)
Données relatives à la priorité :
60/357,184 15.02.2002 US
Titre (EN) PROCESS FOR MAKING PHOTONIC CRYSTAL CIRCUITS USING AN ELECTRON BEAM AND ULTRAVIOLET LITHOGRAPHY COMBINATION
(FR) PROCEDE DE FABRICATION DE CIRCUITS A CRISTAL PHOTONIQUE A L'AIDE D'UNE COMBINAISON DE FAISCEAU D'ELECTRONS ET DE LITHOGRAPHIE PAR ULTRAVIOLETS
Abrégé : front page image
(EN)A process for making photonic crystal circuit and a photonic crystal circuit consisting of regularly-distributed holes in a high index dielectric material, and controllably-placed defects within this lattice, creating waveguides, cavities, etc. for photonic devices. The process is based upon the discovery that some positive ultraviolet (UV) photoresists (12) are electron beam sensitive (16) and behave like negative electron beam photoresists. This permits creation of photonic crystal circuits using a combination of electron beam and UV exposures. As a result, the process combines the best features of the two exposure methods: the high speed of UV exposure and the high resolution and control of the electron beam exposure. The process also eliminates the need for expensive photomasks.
(FR)L'invention concerne un procédé de fabrication d'un circuit à cristal photonique et un circuit à cristal photonique consistant en des trous régulièrement répartis dans un matériau diélectrique à indice élevé, et en des défauts placés de façon commandée dans ce réseau, créant des guides d'onde, des cavités etc. pour des dispositifs photoniques. Ce processus se base sur la découverte que certaines résines photosensibles (12) aux ultraviolets (UV) positifs sont sensibles à un faisceau d'électron (16) et se comportent comme des résines photosensibles à un faisceau d'électrons négatifs. Ceci permet la création de circuits à cristal photonique à l'aide d'une combinaison d'expositions à un faisceau d'électrons et à des ultraviolets. En conséquence, ce procédé combine les meilleurs caractéristiques de deux procédés d'exposition: la vitesse élevée de l'exposition aux ultraviolets et la résolution et la commande élevées de l'exposition à un faisceau d'électrons. Ce procédé permet également d'éliminer le besoin de masques photographiques coûteux.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SK, SL, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)