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1. (WO2003071578) SYSTEME ET PROCEDE DE TRAITEMENT DE MATERIAU, ET DISPOSITIF D'AMENEE DE GAZ Y RELATIF
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2003/071578    N° de la demande internationale :    PCT/EP2003/001923
Date de publication : 28.08.2003 Date de dépôt international : 25.02.2003
CIB :
H01J 37/305 (2006.01)
Déposants : LEO ELEKTRONENMIKROSKOPIE GMBH [DE/DE]; Carl-Zeiss-Strasse 56, 73447 Oberkochen (DE) (Tous Sauf US).
NAWOTEC GMBH [DE/DE]; Industriestrasse 1, 64380 Rossdorf (DE) (Tous Sauf US).
KOOPS, Hans, W., P. [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
HOFFROGGE, Peter [DE/DE]; (DE) (US Seulement)
Inventeurs : KOOPS, Hans, W., P.; (DE).
HOFFROGGE, Peter; (DE)
Mandataire : SCHORR, Frank; Augustenstrasse 46, 80333 München (DE)
Données relatives à la priorité :
102 08 043.7 25.02.2002 DE
Titre (DE) MATERIALBEARBEITUNGSSYSTEM, MATERIALBEARBEITUNGSVERFAHREN UND GASZUFÜHRUNG HIERFÜR
(EN) MATERIAL TREATING SYSTEM, MATERIAL TREATING METHOD AND CORRESPONDING GAS SUPPLY
(FR) SYSTEME ET PROCEDE DE TRAITEMENT DE MATERIAU, ET DISPOSITIF D'AMENEE DE GAZ Y RELATIF
Abrégé : front page image
(DE)Es wird ein Materialbearbeitungssystem zur Bearbeitung eines Werkstücks (3) vorgeschlagen. Die Materialbearbeitung erfolgt durch Zuführung eines Reaktionsgases und energetischer Strahlung zur Anregung des Reaktionsgases in eine Umgebung eines zu bearbeitenden Ortes des Werkstücks. Die Strahlung wird vorzugsweise durch ein Elektronenmikroskop (15) bereitgestellt. Eine Objektivlinse (27) des Elektronenmikroskops liegt vorzugsweise zwischen einem Detektor (41) desselben und dem Werkstück. Eine Gaszuführungsanordnung (53) des Materialbearbeitungssystems weist ein mit Abstand von dem Bearbeitungsort angeordnetes Ventil auf, wobei ein Gasvolumen zwischen dem Ventil und einem Austrittsort (59) des Reaktionsgases klein ist. Die Gaszuführungsanordnung weist ferner ein temperiertes, insbesondere gekühltes Reservoir zur Aufnahme eines Ausgangsmaterials für das Reaktionsgas auf.
(EN)The invention relates to a material treating system for treating a work piece (3). The material treatment is carried out by supplying a reaction gas and energetic radiation to induce the reaction gas in a surrounding of a section of the work piece to be treated. The radiation is preferably provided by an electron microscope (15). An objective lens (27) of the electron microscope is disposed preferably between a detector (41) thereof and the work piece. A gas supply system (53) of the material treating system is provided with a valve disposed at a distance from the treating section, and a gas volume between the valve and a location of emergence (59) of the reaction gas is small. The gas supply system is further provided with a temperature-adjusted, especially cooled reservoir for receiving a starting material for the reaction gas.
(FR)L'invention concerne un système de traitement de matériau destiné au traitement d'une pièce (3). Le traitement de matériau s'effectue par amenée d'un gaz de réaction et d'un rayonnement énergétique pour l'excitation du gaz de réaction dans l'environnement d'un emplacement à traiter de la pièce. Le rayonnement est fourni de préférence par un microscope électronique (15). Une lentille d'objectif (27) du microscope électronique est disposée de préférence entre un détecteur (41) de celui-ci et la pièce. Un dispositif d'amenée de gaz (53) du système de traitement du matériau présente une valve montée à distance de l'emplacement du traitement, le volume de gaz entre la valve et l'emplacement de sortie (59) du gaz de réaction étant faible. Le dispositif d'amenée de gaz comprend en outre un réservoir thermostatique, en particulier, refroidi, destiné à recevoir une matière première pour le gaz de réaction.
États désignés : JP, US.
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, SI, SK, TR).
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)