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1. (WO2003070924) REDUCTASE D'ENONE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2003/070924    N° de la demande internationale :    PCT/EP2003/001473
Date de publication : 28.08.2003 Date de dépôt international : 14.02.2003
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    24.07.2003    
CIB :
C12N 9/02 (2006.01), C12P 7/26 (2006.01)
Déposants : DSM IP ASSETS B.V. [NL/NL]; Het Overloon 1, NL-6411 TE Heerlen (NL) (Tous Sauf US).
KATAOKA, Michihiko [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SHIMIZU, Sakayu [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : KATAOKA, Michihiko; (JP).
SHIMIZU, Sakayu; (JP)
Mandataire : LEDERER & KELLER; Prinzregebtebstrasse 16, 80538 München (DE)
Données relatives à la priorité :
02003967.3 22.02.2002 EP
Titre (EN) ENONE REDUCTASE
(FR) REDUCTASE D'ENONE
Abrégé : front page image
(EN)An isolated enone reductase characterized by a molecular mass of 61300 +/− 5000 Da; NADPH and NADH as co−factor; a temperature optimum of 55−60 °C at pH 7.4 ; a pH optimum of 4.5−8.5 and substrate specificity on ∝,&bgr;−unsatured ketones; a process for producing it from a microorganism and a process for producing levodione from ketoisophorone using such reductase.
(FR)Réductase d'enone isolée caractérisée par une masse moléculaire de 61300 +/- 5000 Da; NADPH et NADH comme co-facteurs, un optimum de température de 55-60 °C à pH 7,4, un optimum de pH de 4,5-8,5 et une spécificité des substrats vis-à-vis des cétones $g(a), $g(b) - insaturés, processus pour la produire à partir d'un micro-organisme et processus pour produire du lévodione à partir de céto-isophorone en utilisant cette réductase.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SK, SL, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)