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1. (WO2003070623) UNITE DE SUPPORT DE SYSTEME MICROFLUIDIQUE ET SON PROCEDE DE FABRICATION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2003/070623    N° de la demande internationale :    PCT/JP2003/002066
Date de publication : 28.08.2003 Date de dépôt international : 25.02.2003
CIB :
B01J 19/00 (2006.01), B01L 3/00 (2006.01)
Déposants : HITACHI CHEMICAL CO., LTD. [JP/JP]; 1-1, Nishishinjuku 2-chome Shinjuku-ku, Tokyo 163-0449 (JP) (Tous Sauf US).
KAWAZOE, Hiroshi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
NAKASO, Akishi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
ARIKE, Shigeharu [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : KAWAZOE, Hiroshi; (JP).
NAKASO, Akishi; (JP).
ARIKE, Shigeharu; (JP)
Mandataire : MIYOSHI, Hidekazu; 9th Floor, Toranomon Daiichi Building, 2-3, Toranomon 1-chome Minato-ku, Tokyo 105-0001 (JP)
Données relatives à la priorité :
2002-48580 25.02.2002 JP
2002-292978 04.10.2002 JP
2003-46414 24.02.2003 JP
Titre (EN) MICRO FLUID SYSTEM SUPPORT UNIT AND MANUFACTURING METHOD THEREOF
(FR) UNITE DE SUPPORT DE SYSTEME MICROFLUIDIQUE ET SON PROCEDE DE FABRICATION
Abrégé : front page image
(EN)A micro fluid system support unit includes a first support body (2), a first adhesive layer (1a) arranged on the surface of the first support body (2), a first hollow filament group consisting of a plurality of hollow filaments (501 to 508) arranged with an arbitrary shape on the surface of the first adhesive layer (1a), a second hollow filament group consisting of a plurality of hollow filaments (511 to 518) arranged in the direction orthogonal to the first hollow filament group, a second adhesive layer (1b) arranged on the surface of the second hollow filament group, and a second support body (6) arranged on the surface of the second adhesive layer (1b). The first and the second hollow filament group constitute a flow passage layer.
(FR)L'invention concerne une unité de support de système microfluidique comprenant un premier corps de support (2), une première couche adhésive (1a) disposée sur la surface du premier corps de support (2), un premier groupe de filaments creux constitué par une pluralité de filaments creux (501 à 508) de forme arbitraire agencés sur la surface de la première couche adhésive (1a), un second groupe de filaments creux constitué par une pluralité de filaments creux (511 à 518) disposés perpendiculairement au premier groupe de filaments creux, une seconde couche adhésive (1b) disposée sur la surface du second groupe de filaments creux, ainsi qu'un second corps de support (6) disposé sur la surface de la seconde couche adhésive (1b). Lesdits premier et second groupes de filaments creux forment une couche de passage d'écoulement.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)