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1. (WO2003070390) APPAREIL DE NETTOYAGE UTILISANT UN PLASMA A PRESSION ATMOSPHERIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2003/070390    N° de la demande internationale :    PCT/KR2003/000343
Date de publication : 28.08.2003 Date de dépôt international : 20.02.2003
CIB :
B08B 7/00 (2006.01), H01J 37/32 (2006.01), H01L 21/00 (2006.01)
Déposants : RADIIONTECH CO., LTD [KR/KR]; 347-52 Banwol-ri, Taean-eup, Hwasung-si,, Gyeonggi-do 445-973 (KR) (Tous Sauf US).
LIM, Dug-Gyu [KR/KR]; (KR) (US Seulement)
Inventeurs : LIM, Dug-Gyu; (KR)
Mandataire : PARK, Sang-Soo; 5th Fl., Woonam Bldg., 824-22, Yeoksam-dong, Kangnam-gu, Seoul 135-080 (KR)
Données relatives à la priorité :
10-2002-0009068 20.02.2002 KR
10-2003-0008312 10.02.2003 KR
Titre (EN) CLEANING APPARATUS USING ATMOSPHERIC PRESSURE PLASMA
(FR) APPAREIL DE NETTOYAGE UTILISANT UN PLASMA A PRESSION ATMOSPHERIQUE
Abrégé : front page image
(EN)A cleaning apparatus includes a reaction gas supply part (30) capable of supplying a reaction gas having a certain pressure to the lower side; a reaction gas suction part (34) which is installed in parallel with the reaction gas supply part with spaced apart from the reaction gas supply part in a certain distance, and which sucks and emits the supplied reaction gas with a certain pressure; an electrode part (32) consisting of the first and second electrodes (44a, b) and installed in parallel with the reaction gas supply part and the reaction gas suction part between them with fixing bodies (46) of an insulation material intervened; a power supply (62) for generating electric field at the lower side of the first and second electrodes; and a table (56) positioned at the lower side of the reaction gas supply part, the reaction gas suction part and the electrode part.
(FR)La présente invention concerne une appareil de nettoyage qui comprend une partie d'alimentation en gaz de réaction qui est prévue pour apporter au côté inférieur, un gaz de réaction ayant une certaine pression; une partie d'aspiration du gaz de réaction qui est installée parallèlement à la partie d'alimentation en gaz de réaction mais à une certaine distance de cette dernière et qui aspire et envoie à une certaine pression, le gaz de réaction apporté; une partie électrode qui est constituée de première et deuxième électrodes et qui est installée parallèlement à la partie d'alimentation en gaz de réaction et à la partie d'aspiration du gaz de réaction et entre ces dernières avec des corps de fixation formés de matériau isolant; une alimentation en puissance servant à générer un champ électrique au niveau du côté inférieur des première et deuxième électrodes; et une table positionnée au niveau du côté inférieur de la partie d'alimentation en gaz de réaction, de la partie d'aspiration du gaz de réaction et de la partie électrode.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)