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1. (WO2003069412) COMPOSITIONS DE RESINE DEGRADABLES SOUS L'EFFET D'ACIDE ET A BASE DE COPOLYMERE CETENE-ALDEHYDE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2003/069412    N° de la demande internationale :    PCT/JP2003/001536
Date de publication : 21.08.2003 Date de dépôt international : 14.02.2003
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    23.07.2003    
CIB :
C08G 63/00 (2006.01), C08G 63/06 (2006.01), C08K 5/00 (2006.01), C08K 5/13 (2006.01), C08K 5/34 (2006.01), G03F 7/039 (2006.01)
Déposants : NIPPON SODA CO.,LTD. [JP/JP]; 2-1, Ohtemachi 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 100-8165 (JP) (Tous Sauf US).
ENDO, Tsuyoshi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SANDA, Fumio [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SUDO, Atsushi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KUBO, Hideo [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : ENDO, Tsuyoshi; (JP).
SANDA, Fumio; (JP).
SUDO, Atsushi; (JP).
KUBO, Hideo; (JP)
Mandataire : MATSUHASHI, Yasusuke; c/o Nippon Soda Co., Ltd., 2-1, Ohtemachi 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 100-8165 (JP)
Données relatives à la priorité :
2002-38044 15.02.2002 JP
2002-55276 01.03.2002 JP
Titre (EN) ACID-DEGRADABLE RESIN COMPOSITIONS CONTAINING KETENE-ALDEHYDE COPOLYMER
(FR) COMPOSITIONS DE RESINE DEGRADABLES SOUS L'EFFET D'ACIDE ET A BASE DE COPOLYMERE CETENE-ALDEHYDE
Abrégé : front page image
(EN)It is intended to provide compositions to be used in resists and the like for forming fine patterns with a high sensitivity and a high resolution by enlarging the difference between the solubilities of exposed parts and unexposed parts. Acid-degradable compositions characterized by containing a polymer having a repeating unit represented by the following general formula (I) and an acid or a compound capable of generating an acid in response to an external stimulation: (I) wherein R1 and R2 independently represent each hydrogen, halogeno, C1-20 hydrocarbyl, a heterocyclic group, cyano, nitro, C(=O)R4, S(O)nR4, P(=O)(R4)2 or M(R4)3; R3 represents C1-20 hydrocarbyl or a heterocyclic group; R4 represents C1-20 hydrocarbyloxy, C1-20 hydrocarbyl, C1-20 hydrocarbylthio or mono- or di-C1-20 hydrocarbylamino; M represents a silicon, germanium, tin or lead atom; and n is 0, 1 or 2.
(FR)L'invention vise à mettre au point des compositions s'utilisant dans des matières de réserve et similaires pour former des tracés précis de sensibilité élevée et à grande résolution par accentuation de la différence entre les solubilités des parties exposées et celles des parties non exposées. L'invention concerne des compositions dégradables sous l'effet d'acide, caractérisées en ce qu'elles contiennent un polymère ayant une unité récurrente représentée par la formule générale (I) suivante et un acide ou un composé capable de produire un acide en réponse à une stimulation extérieure : (I), dans laquelle R1 et R2 représentent chacun hydrogène, halogéno, hydrocarbyle C1-20, un groupe hétérocyclique, cyano, nitro, C(=O)R4, S(O)nR4, P(=O)(R4)2 ou M(R4)3 ; R3 représente hydrocarbyle C1-20 ou un groupe hétérocyclique ; R4 représente hydrocarbyloxy C1-20, hydrocarbyle C1-20, hydrocarbylthio C1-20 ou di-hydrocarbylamino C1-20, hydrocarbylthio C1-20 ou mono- ou di-hydrocarbylamino C1-20 ; M représente un atome de silicium, de germanium, d'étain ou de plomb ; et n vaut 0, 1 ou 2.
États désignés : CN, JP, KR, US.
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, SI, SK, TR).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)