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1. (WO2003069381) COMPOSANT COMPRENANT DES ESPACES VIDES SUBMICRONIQUES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2003/069381    N° de la demande internationale :    PCT/CH2003/000102
Date de publication : 21.08.2003 Date de dépôt international : 12.02.2003
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    04.09.2003    
CIB :
B01D 21/00 (2006.01), B01D 39/20 (2006.01), B01L 3/00 (2006.01), B81B 1/00 (2006.01), C23C 14/04 (2006.01), G02B 5/18 (2006.01), G02B 6/12 (2006.01)
Déposants : UNAXIS BALZERS LIMITED [LI/LI]; P.O. Box 1000, FL-9496 Balzers (LI)
Inventeurs : EDLINGER, Johannes; (AT).
HEINE-KEMPKENS, Claus; (CH).
ZÜGER, Othmar; (LI)
Mandataire : TROESCH, Jacques; Troesch Scheidegger Werner AG, Patentanwaltsbüro, Schwäntenmos 14, CH-8126 Zumikon (CH)
Données relatives à la priorité :
60/356,284 12.02.2002 US
Titre (EN) OPTICAL COMPONENT COMPRISING SUBMICRON HOLLOW SPACES
(FR) COMPOSANT COMPRENANT DES ESPACES VIDES SUBMICRONIQUES
Abrégé : front page image
(EN)An optical component or an analytical platform includes a substrate, an array of microstructures on the substrate (3) and microchannels (15, 15') formed by side walls of adjacent microstructures, a width of the microchannels varies as a function of distance to the substrate, the width continuously decreasing with increasing distance from the substrate within at least one distance-interval. In a method for producing such a component or such a platform a substrate with an array of surface microstructures is coated in a vapor treatment in such a way that shadowing effects of the coating mechanism narrow at least partially a width of the upper parts of side walls of the microstructures thereby forming at least partially embedded microchannels.
(FR)L'invention concerne un composant optique ou une plate-forme analytique comprenant un substrat, un réseau de microstructures disposé sur le substrat et des microcanaux constitués de parois latérales de microstructures adjacentes. La largeur des microcanaux varie en fonction de distance la distance par rapport au substrat et diminue de façon continue à mesure que la distance depuis le substrat augmente dans au moins une intervalle de distance. Dans un procédé permettant de produire ce composant ou cette plate-forme, un substrat muni d'un réseau de microstructures de surface est enrobé à l'aide d'un traitement à la vapeur de manière que les effets d'occultation du mécanisme d'enrobage resserrent au moins partiellement la largeur des parties supérieures des parois latérales des microstructures, formant ainsi des microcanaux au moins partiellement intégrés.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)