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1. (WO2003069276) PROCEDE DE MESURE DE POSITION, PROCEDE D'EXPOSITION, ET PROCEDE DE PRODUCTION DE DISPOSITIF
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2003/069276    N° de la demande internationale :    PCT/JP2003/001567
Date de publication : 21.08.2003 Date de dépôt international : 14.02.2003
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    11.09.2003    
CIB :
G01B 11/27 (2006.01), G03F 9/00 (2006.01)
Déposants : NIKON CORPORATION [JP/JP]; 2-3, Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 100-8331 (JP) (Tous Sauf US).
KOKUMAI, Yuji [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : KOKUMAI, Yuji; (JP)
Mandataire : SHIGA, Masatake; SHIGA INTERNATIONAL PATENT OFFICE, 2-3-1 Yaesu, Chuo-ku, Tokyo 104-8453 (JP)
Données relatives à la priorité :
2002-038966 15.02.2002 JP
Titre (EN) POSITION MEASURING METHOD, EXPOSURE METHOD, AND DEVICE PRODUCING METHOD
(FR) PROCEDE DE MESURE DE POSITION, PROCEDE D'EXPOSITION, ET PROCEDE DE PRODUCTION DE DISPOSITIF
Abrégé : front page image
(EN)A position measuring method capable of correctly measuring the position information of a mark even if only part of the mark can be observed via an observation visual field or the mark is out of an observation visual field. An observation system used has observation visual fields (PFx, PFy) that permit the observation of part of a mark (M) but does not permit the observation of the entire mark (M). A plurality of regions (S1, S2, S3, ....) on an object are imaged so as to include at least one region in which the mark (M) is partially observed via the observation visual fields (PFx, PFy) of the observation system, which part of the mark (M) the part of the mark (M) to be imaged belongs to is specified based on the imaged results, and the position information of the mark (M) is determined based on the partially imaged results of the mark (M) and the specified result.
(FR)L'invention concerne un procédé de mesure de position permettant de mesurer correctement l'information de position d'une marque, y compris si seulement une partie de la marque peut être observée à travers un champ visuel d'observation ou si la marque se trouve en dehors d'un champ visuel d'observation. Le système d'observation utilisé comprend des champs visuels d'observation (PFx, PFy) permettant d'observer une partie d'une marque (M) mais ne permettant pas d'observer la marque (M) entière. Une pluralité de zones (S1, S2, S3, ) d'un objet sont mises en images de manière à comprendre au moins une zone dans laquelle la marque (M) est partiellement observée à travers les champs visuels d'observation (PFx, PFy) du système d'observation. La partie de la marque (M) à laquelle appartient la partie de la marque à mettre en images est spécifiée à partir des résultats mis en image, et les informations de position de la marque (M) sont déterminées en fonction des résultats partiellement mis en image de la marque (M) et du résultat spécifié.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)