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1. (WO2003068889) AFFINEMENT DE PROFIL DESTINE A UNE METROLOGIE D'UN CIRCUIT INTEGRE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2003/068889    N° de la demande internationale :    PCT/US2003/003955
Date de publication : 21.08.2003 Date de dépôt international : 10.02.2003
CIB :
G01N 21/47 (2006.01)
Déposants : TIMBRE TECHNOLOGIES, INC. [US/US]; 2953 Bunker Lane, Suite 301, Santa Clara, CA 95054 (US) (Tous Sauf US).
BAO, Junwei [CN/US]; (US).
DODDI, Srinivas [IN/US]; (US).
JAKATDAR, Nickhil [IN/US]; (US).
VOUNG, Vi [US/US]; (US)
Inventeurs : BAO, Junwei; (US).
DODDI, Srinivas; (US).
JAKATDAR, Nickhil; (US).
VOUNG, Vi; (US)
Mandataire : YIM, Peter, J.; Morrison & Foerster LLP, 425 Market Street, San Francisco, CA 94105-2482 (US)
Données relatives à la priorité :
10/075,904 12.02.2002 US
Titre (EN) PROFILE REFINEMENT FOR INTEGRATED CIRCUIT METROLOGY
(FR) AFFINEMENT DE PROFIL DESTINE A UNE METROLOGIE D'UN CIRCUIT INTEGRE
Abrégé : front page image
(EN)The present invention includes a method and system (53) for determining the profile of a structure (59) in an integrated circuit from a measured signal, the signal measured off the structure with a metrology device (40), selecting a best match of the measured signal in a profile data space, the profile data space having data points with a specified extent of non-linearity, and performing a refinement procedure to determine refined profile parameters. One embodiment includes a refinement procedure comprising finding a polyhedron in a function domain of cost functions of the profile library signals and profile parameters and minimizing the total cost function using the weighted average method. Other embodiments include profile parameter refinement procedures using sensitivity analysis, a clustering approach, regression-based methods, localized fine-resolution refinement library method, iterative library refinement method, and other cost optimization or refinement algorithms, procedures, and methods. Refinement of profile parameters may be invoked automatically or invoked based on predetermined criteria such as exceeding an error metric between the measured signal versus the best match profile library.
(FR)L'invention concerne un procédé et un système permettant de déterminer le profil d'une structure dans un circuit intégré à partir d'un signal mesuré à partir de la structure au moyen d'un dispositif de métrologie, de sélectionner le meilleur appariement du signal mesuré dans un espace de données de profil, celui-ci possédant des points de données à étendue spécifiée de non-linéarité, et d'effectuer une procédure d'affinement permettant de déterminer des paramètres de profil affinés. Dans un mode de réalisation, une procédure d'affinement consiste à rechercher un polyèdre dans un domaine de fonctions de coûts des signaux de banque de profils et des paramètres de profil et à minimiser la fonction de coût globale au moyen du procédé de moyenne pondérée. Dans d'autres modes de réalisation, des procédures d'affinement de paramètres de profil consistent à mettre en oeuvre une analyse de la sensibilité, une approche de regroupement, des procédés fondés sur la régression, un procédé de banque d'affinement haute résolution localisée, un procédé d'affinement de banque itérative et d'autres algorithmes, procédures et procédés d'affinement ou d'optimisation des coûts. L'affinement de paramètres de profil peut être appelé automatiquement ou appelé en fonction de critères prédéterminés, tels que le dépassement d'une métrique d'erreur entre le signal mesuré et la banque de profil à meilleur appariement.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)