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1. (WO2003067671) PROCEDE DE PRODUCTION DE DISPOSITIFS PHOTOVOLTAIQUES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2003/067671    N° de la demande internationale :    PCT/US2002/025063
Date de publication : 14.08.2003 Date de dépôt international : 07.08.2002
CIB :
H01L 31/18 (2006.01), H01L 31/20 (2006.01)
Déposants : BP CORPORATION NORTH AMERICA INC. [US/US]; 4101 Winfield Road, Mail Code 5, Warrrenville, IL 60555 (US)
Inventeurs : OSWALD, Robert, S.; (US)
Mandataire : NEMO, Thomas, E.; BP Corporation North America Inc., MC 2207A, 200 East Randolph Drive, Chicago, IL 60601 (US)
Données relatives à la priorité :
10/068,733 06.02.2002 US
Titre (EN) PROCESS FOR PRODUCING PHOTOVOLTAIC DEVICES
(FR) PROCEDE DE PRODUCTION DE DISPOSITIFS PHOTOVOLTAIQUES
Abrégé : front page image
(EN)A continuous process for depositing a thin film layer or layers on a substrate during the production of thin film photovoltaic devices comprising moving the substrate at an elevated temperature in a reduced pressure environment past one or more sources of material to be deposited thereby forming on the substrate at least one thin film of the material from the source.
(FR)L'invention concerne un procédé continu de dépôt d'au moins une couche mince sur un substrat pendant la production de dispositifs photovoltaïques en couche mince. Ce procédé consiste à déplacer le substrat à une température élevée dans un environnement à pression réduite tout en déposant de la matière provenant d'une ou de plusieurs sources de manière à former ainsi au moins une couche mince de matière sur le substrat.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)